| 研究概要 |
昨年度までの研究により,ripplonを用いた表面光散乱法の基本的設備が整い,その成果として常温付近での数kHzのripplonの検知により,表面張力と動粘性率の動的な同時測定が可能であることが明らかになった。このことを前提として,本年度の成果は以下のようにまとめられる。
(1)溶融シリコンの表面張力測定を融点から約1770Kの温度範囲で行った。測定の再現性は最大で±7%であった。
(2)得られたデータを温度の関数として表示式を作成し,その結果,融点での表面張力の値が806.2mN/m,そして温度計数は-0.24mN/mKを得た。
(3)測定したシリコン中の酸素および炭素濃度を,グロー放電質量分析法ににより分析し,酸素濃度:16x10^<18>atom/cm^3,炭素濃度:9.8x10^<16>atom/cm^3を得た。これらの微量な不純物が表面張力に与える影響については,現在検討中である。
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