| 研究課題/領域番号 |
07263215
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| 研究種目 |
重点領域研究
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
定方 正毅 東京大学, 大学院・工学系研究科, 教授 (30011175)
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| 研究分担者 |
原野 安土 東京大学, 大学院・工学系研究科, 助手 (90238204)
大久保 達也 東京大学, 大学院・工学系研究科, 講師 (40203731)
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| 研究期間 (年度) |
1995
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| 研究課題ステータス |
完了 (1995年度)
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| 配分額 *注記 |
3,000千円 (直接経費: 3,000千円)
1995年度: 3,000千円 (直接経費: 3,000千円)
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| キーワード | 放電 / ラジカル / NOx / 多孔質ガラス |
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| 研究概要 |
本年度は昨年考案した反応装置を用い、酸素過剰条件下におけるNOxの除去と、円面放電を用いたNラジカルの生成の検討を行った。
1)酸素過剰条件下の反応実験は多孔質ガラスの外側にNiを含浸法で担持した触媒を用い、NO-H_2-O_2の反応ガスで実験を行った。結果、1回の浸透法による担持では酸素過剰条件ではN_2の生成は見られなかった。担持3回還元4回と、担持、還元を繰り返すことによりNO-O_2-H_2が最高0.7%、4.4%、2.96%の条件下で反応温度250℃においてN_2を生成することが出来た。
実際の排気系を考えた場合、滞留時間は非常に短い。そこで、流量を増加し滞留時間を短くするとN_2は見られなかった。しかし、Niの含浸液の濃度を濃くすることにより、今までの約0.7倍の滞留時間でN_2の生成が確認された。
2)常温でNOを還元できうるNラジカルを円面放電を用い高効率で生成し、反応場に吹き込むための基礎実験を行った。結果、Nラジカルは拡散しており、その広さ、濃度は放電ガスの流速に依存している。この結果を元に定量化を行うことによりNOの低減予測と、それに基づく最適な設計が可能となる。
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