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D-およびL-デオキシ並びに分枝デオキシフラノースの統一的合成法の開発

研究課題

研究課題/領域番号 07454198
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 物質変換
研究機関倉敷芸術科学大学

研究代表者

佐藤 恒夫  倉敷芸術科学大学, 産業科学技術学部, 教授 (80183383)

研究期間 (年度) 1995 – 1997
研究課題ステータス 完了 (1997年度)
配分額 *注記
2,800千円 (直接経費: 2,800千円)
1997年度: 1,200千円 (直接経費: 1,200千円)
1996年度: 1,600千円 (直接経費: 1,600千円)
キーワードD-2,3-ジデオキシリボース / L-2,3-ジデオキシリボース / D-2-デオキシリボース / D-3-デオキシリボース / D-デオキシ糖 / L-デオキシ糖 / 分枝デオキシ糖 / 2-デオキシ糖 / 分枝糖 / デオキシ糖 / 3-メチルリボフラノース / 4-メチルリボフラノース / 2,3-ジデオキシ糖 / アリル陰イオン / 位置選択性 / ミズロウ-エバンス転位 / 不斉エポキシ化 / D-2-デオキシリボフラノース / D-3-デオキシリボフラノース / δ-ヒドロキシ-α-エナ-ル
研究概要

1.1-メトキシ-3-(フェニルチオ)-1-プロペンと(R)-ベンジルグリシジルエーテルから(E,S)-6-ベンジロキシ-5-ヒドロキシ-2-ヘキセナ-ルを誘導後、ヒドロキシ基のシリル化、アルデヒドの1級アルコールへの変換、D-酒石酸エチルを用いるSharpless-Katsukiの不斉エポキシ化およびベンジルアルコールによるオキシランの開環を順次行って、(2R,3S,5S)-3,6-ビス(ベンジロキシ)-5-(tert-ブチルジメチルシロキシ)-1,2-ヘキサンジオールを得た。vic-ジオールのアセトニド化、シリル基とベンジル基の脱保護、生成したvic-ジオールのNalO_4処理、最後にアセトニド基の脱保護を行ってD-2-デオキシリボフラノースを合成した。
2.1で、L-酒石酸エチルを用いて(2S,3R,5S)-3,6-ビス(ベンジロキシ)-5-(tert-ブチルジメチルシロキシ)-1,2-ヘキサンジオールを誘導後、シリル基の脱保護、vic-ジオールの切断、ベンジル基の脱保護を行って、D-3-デオキシリボフラノースを得た。
3.1で、オキシラン開環剤として水素化アルミニウムリチウムを用いて、D-2,3-ジデオキシリボフラノースを、一方、(S)-ベンジルグリシジルエーテルとL-酒石酸エチルを用いて,L-2,3-ジデオキシリボフラノースを合成した。
4.1で、オキシラン開環剤としてアジ化ナトリウムを用いて、D-3-アジド-2,3-ジデオキシリボフラノースを合成した。
5.1で、1-メトキシ-2-メチル-3-(フェニルチオ)-1-プロペンと1-メトキシ-3-(フェニルチオ)-1-ブテンを用いて、D-2-デオキシ-4-メチルリボフラノースとD-2-デオキシ-3-メチルリボフラノースをそれぞれ合成した。

報告書

(4件)
  • 1997 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 1996 実績報告書
  • 1995 実績報告書

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公開日: 1996-04-01   更新日: 2016-04-21  

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