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大気開放系におけるドライプロセス用低温プラズマトーチの開発

研究課題

研究課題/領域番号 07555268
研究種目

基盤研究(A)

配分区分補助金
応募区分展開研究
研究分野 工業物理化学
研究機関東京工業大学

研究代表者

鯉沼 秀臣  東京工業大学, 応用セラミックス研究所, 教授 (70011187)

研究分担者 佐藤 浩太  横浜国立大学, 工学部, 助教授 (40192091)
妹尾 武彦  プラズマシステム株式会社, 開発部, 研究員
研究期間 (年度) 1995 – 1997
研究課題ステータス 完了 (1997年度)
配分額 *注記
14,900千円 (直接経費: 14,900千円)
1997年度: 3,000千円 (直接経費: 3,000千円)
1996年度: 4,500千円 (直接経費: 4,500千円)
1995年度: 7,400千円 (直接経費: 7,400千円)
キーワード大気圧低温プラズマ / プラズマプロセス / 有機高分子膜 / 表面処理 / 接着性向上 / O_2プラズマ / 誘電体 / ポーラスアルミナ / 陽極酸化 / 大気圧低温プラズマト-チ / スパッタ堆積 / 金属薄膜 / 酸化物エッチング / プラズマ診断 / 反応性プラズマ
研究概要

本研究では大気圧下に低温プラズマを発生する各種の装置を開発し、空気中で実施できる新たなプラズマプロセスの応用について検討した。プラズマ診断、および放電形状の制御パラメータの検討を通して、大気開放系低温プラズマの本質を明らかにすることも目的とした。
本研究により、1mm以下のビーム状から2×50mmのシート状、直径50mmのデスク状に至る各種形状を有し、温度500℃から100℃以下にわたる放電気体を大気中に放出できるプラズマ発生器を作成し、その特性を明らかにした。
この新しい大気開放系低温プラズマの応用として、第一にセラミックス薄膜堆積、およびエッチングの可能性を明らかにした。また、真空チャンバー中では処理しにくい、ゴムや高分子フイルム等に村するプラズマ表面処理に効果的なプロセスを開発した。

報告書

(4件)
  • 1997 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 1996 実績報告書
  • 1995 実績報告書
  • 研究成果

    (27件)

すべて 1998 1997 1996 1995 その他

すべて 雑誌論文 (13件) 文献書誌 (14件)

  • [雑誌論文] A novel low temperature plasma generator with alumina coated electrode for open air material processing1998

    • 著者名/発表者名
      M. KOIDE, T. HORIUCHI, T. INUSHIMA, B. J. LEE, M. TOBAYAMA, H. KOINUMA
    • 雑誌名

      Thin Solid Films 316

      ページ: 65-67

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1997 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Oxygen plasma treatment of rubber surface by theatomospheric pressure cold plasma torch1997

    • 著者名/発表者名
      B. J. LEE, Y. KUSANO, N. KATO, K. NAITO, T. HORIUCHI, H. KOINUMA
    • 雑誌名

      Jpn. J. App. Phys. 36

      ページ: 2888-2891

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1997 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Oxygen plasma treatment of rubber surface by the atomospheric pressure cold plasma torch1997

    • 著者名/発表者名
      B. J. LEE, Y. KUSANO, N. KATO, K. NAITO, T. HORIUCHI, H. KOINUMA
    • 雑誌名

      Jpn. J. App. Phys. 36

      ページ: 2888-2891

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1997 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Synthesis of carbon clusters and thin films by low temperature plasma chemical vapor deposition under atmospheric pressure1996

    • 著者名/発表者名
      H. KOINUMA, T. HORIUCHI, K. INOMATA, H. K. HA, K. NAKAJIMA, K. A. CHAUDHARY
    • 雑誌名

      Pure & Appl. Chem 68(5)

      ページ: 1151-1154

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1997 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] プラズマ化学とセラミックス1996

    • 著者名/発表者名
      鯉沼秀臣, 堀内賢雄
    • 雑誌名

      セラミックスデータブック 96別冊

      ページ: 42-45

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1997 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] structure and electric properties of TiO_2 films preparedby cold plasma torch under atomospheric pressure1996

    • 著者名/発表者名
      H. HA, B. K. MOON, T. HORIUCHI, T. ONUSHIMA, T. INUSHIMA, H. KOINUMA
    • 雑誌名

      Mat. Sci. and Eng. B41

      ページ: 143-147

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1997 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Surface modification of rubber by the treatment coldplasma torch1996

    • 著者名/発表者名
      B. J. LEE, et al
    • 雑誌名

      Proc. the 3rd Conf. on Science & Technology

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1997 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Structure and electric properties of TiO_2 films prepared by cold plasma torch under atomospheric pressure1996

    • 著者名/発表者名
      H. HA, B. K. MOON, T. HORIUCHI, T. ONUSHIMA, T. INUSHIMA, H. KOINUMA
    • 雑誌名

      Mat. Sci. and Eng. B41

      ページ: 143-147

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1997 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Surface modification of rubber by the treatment cold plasma torch1996

    • 著者名/発表者名
      B. J. LEE, et al
    • 雑誌名

      Proc. the 3rd Conf. on Science & Technology

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1997 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Open air photoresist ashing by a cold plasma torch : Catalytic effect of cathode material1995

    • 著者名/発表者名
      K. INOMATA, H. KOINUMA, Y. OIKAWA, T. SHIRAISHI
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett. 66(17)

      ページ: 2188-2190

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1997 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Plasma chemical vapor deposition of SiO_2 on Air-exposed surfaces by cold plasma torch1995

    • 著者名/発表者名
      H. K. HA, K. INOMATA, H. KOINUMA
    • 雑誌名

      Jorn. of the Electrochemical Society 42(8)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1997 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Open air plasma chemical vapor deposition of highlydiectric amorphous TiO_2 film1995

    • 著者名/発表者名
      H. K. HA, M. YOSHIMOTO, H. KOINUMA B. K. MOON, H. ISHIWARA
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett. 68(21)20

      ページ: 2965-2967

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1997 研究成果報告書概要
  • [雑誌論文] Open air plasma chemical vapor deposition of highly diectric amorphous TiO_2 film1995

    • 著者名/発表者名
      H. K. HA, M. YOSHIMOTO, H. KOINUMA B. K. MOON, H. ISHIWARA
    • 雑誌名

      Appl. Phys. Lett. 68(21)20

      ページ: 2965-2967

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1997 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Bong-ju LEE: "Oxygen Plasma Treatment of Rubber Surface by the Atmospheric Pressure Cold Plasma Torch" Jpn. J. Appl. Phys.36. 2888-2891 (1997)

    • 関連する報告書
      1997 実績報告書
  • [文献書誌] Miyuki Koide: "A novel low temperature plasma generator with alumina coated for open air material processing" Thin Solid Films. in press.

    • 関連する報告書
      1997 実績報告書
  • [文献書誌] Kota Sato: "Ab initio molecular-orbital study on the surface reactions of methane and silane plasma chemical vapor deposition" Phys. Rev. B. 55(23). 15467-15470 (1997)

    • 関連する報告書
      1997 実績報告書
  • [文献書誌] Kaori Miyazaki: "An ab-initio Molecular-Orbital Analysis on the Initial Plasma CVD Process of a-Si : H Film on Glass Substrate" Thin Solid Films. (in press).

    • 関連する報告書
      1997 実績報告書
  • [文献書誌] H.KOINUMA et al.: "Synthesis of Carbon Clusters and Thin Films by Low Temperature Plasma Chemical Vapor Deposition under Atmosperic Pressure" Pure & Appl.Chem.68. 1151-1154 (1996)

    • 関連する報告書
      1996 実績報告書
  • [文献書誌] H.K.HA,H.Koinuma et al.: "Structure and Electric Properties of TiO_2 Films Prepared by Cold Plasma Torch under Atmsopheric Pressure" Mat.Sci.Eng.B41. 143-147 (1996)

    • 関連する報告書
      1996 実績報告書
  • [文献書誌] H.K.HA,H.Koinuma et al.: "Open Air Plasma Chemical Vapor Deposition of Highly Dielectric Amorphous TiO_2 Films" Appl.Phys.Lett.68. 2965-2967 (1996)

    • 関連する報告書
      1996 実績報告書
  • [文献書誌] B.J.Lee,et al.: "Surface Modification of Rubber by the Treatment with Atmospheric Pressure Cold Plasma Torch" Proc.The 3rd Asia-Pacific Conf.on Science &Technology. 1. 129-132 (1996)

    • 関連する報告書
      1996 実績報告書
  • [文献書誌] K.Sato and H.Koinuma: "Quantum Chemical Analysis and Prediction of Plasma Chemical Vapor Depposition Procedsses of Silicon Compounds" Prog.Polym.Sci.,42 (1996)

    • 関連する報告書
      1996 実績報告書
  • [文献書誌] H. Koinuma et al.: "Open Air Photoresist Ashing by A Cold Plasma Torch" Appl. Phys Lett.66[17]. 2188-2190 (1995)

    • 関連する報告書
      1995 実績報告書
  • [文献書誌] H. Koinuma et al.: "Plasma CVD of SiO_2 on Air-Exposed Surfaces by Cold Pladsma Torch" J. Electrochem. Soc.142[8]. 2726-30 (1995)

    • 関連する報告書
      1995 実績報告書
  • [文献書誌] H. Koinuma et al.: "Synthesis of Carbon Clusters and Thin Films by Low Temperature Plasma CVD under Atmosphonic Pressure" Pure&Appl. Chem(ISPC-12). Aug. 24. (1995)

    • 関連する報告書
      1995 実績報告書
  • [文献書誌] H.Koinuma et al.: "Highly Dielectric Amorphous TiO_2 Films Prepared in Air by Plasma CVD" Proceeding of IUMRS 3rd International Conference in Asia. 987-992 (1995)

    • 関連する報告書
      1995 実績報告書
  • [文献書誌] K. Sato et al.: "High Cross-Linked Polymer Networks of Amorphous Silicon Alloys" Prog. in Polymer Sci.(in press).

    • 関連する報告書
      1995 実績報告書

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公開日: 1995-04-01   更新日: 2016-04-21  

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