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マイクロ波Nプラズマを用いたGaNバルク単結晶の育成

研究課題

研究課題/領域番号 07805032
研究種目

基盤研究(C)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 電子・電気材料工学
研究機関山口大学

研究代表者

甲斐 綾子  山口大学, 工学部, 講師 (50253167)

研究分担者 田口 常正  山口大学, 工学部, 教授 (90101279)
研究期間 (年度) 1995 – 1996
研究課題ステータス 完了 (1996年度)
配分額 *注記
2,100千円 (直接経費: 2,100千円)
1996年度: 200千円 (直接経費: 200千円)
1995年度: 1,900千円 (直接経費: 1,900千円)
キーワード窒化ガリウム / マイクロ波プラズマCVD法 / 窒素プラズマ / 結晶成長 / フォトルミネッセンス / 自由励起子 / III-V族化合物半導体
研究概要

1.プラズマ中励起種のキャラクタリゼーション
窒素プラズマ中にはN原子(3p^4S_<3/2>→3s^4P_<3/2>→,3p^4P_<3/2>→,3s^4P_<3/2>,3p^4D_<2/3>→3s【lambda bar】E1P^<1/2>),N_2分子(B^3 II_g→A^3Σ_u^+,C^3II_u→B^3II_g),N_2^+イオン(B^2Σ_u^+→X^2Σ_g^+)の励起種が検出された.これらの励起種は,窒素流量・圧力に対して同様な依存性を示した.しかしマイクロ波出力に対しては,出力とともにN原子の発光強度が著しく増加し,500W以上では占める割合が増大した.Gaを入れた場合,500W以上でGa原子(5s^2S_<01/2>→4p^2P_<11/2>,5s^2S_<01/2>→4p^2P_<01/2>)による発光が観察され出力とともに強度が増加したが,それ以下では出現しなかった.
2.GaN結晶成長
プラズマ中にGa原子が出現する高出力条件下で,六方晶GaN多結晶が成長したが,低出力の領域では,結晶は成長せず金属Gaの表面が窒化された.次に長時間高出力可能なアプリケーターを用いて低温での成長実験を行ったが,プラズマ中にGa原子が出現せずバルク単結晶の育成には至らなかった.以上の結果はGaN結晶生成に関与している励起種がN原子とGa原子である可能性を強く示唆している.また,Gaの原子化はプラズマ温度に大きく依存すると考えられる.
3.GaN結晶の光学的評価
成長した試料は,不純物による深い準位からの発光を示さず,バンド端付近に低エネルギー側にショルダーをもつ強い発光を示した.高エネルギー側ピークの温度依存性が自由励起子のそれと一致したことから,この発光は自由励起子の再結合によることが明らかになった.また,低エネルギー側のショルダーは,強励起下で飽和し温度上昇につれて減少することから,局在励起子の再結合によると考えられる.自由励起子によりる光は,室温においても強く観察された.多結晶試料でこのような例は他になく,出発物質に不純物を含まないという本研究の利点が活かされていると考えられる.

報告書

(3件)
  • 1996 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 1995 実績報告書
  • 研究成果

    (11件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (11件)

  • [文献書誌] 岡田清彦: "マイクロ波窒素プラズマを用いたGaN薄膜の成長と室温励起発光" 山口大学光学部研究報告. 46・2. 57-61 (1996)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Ayako Kai: "Excitonic Emission in GaN Films on AIN Substrates Using Microwave-Excited N Plasma. Method" Jpn.J.Appl. Phys.35. 1424-1427 (1996)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Kiyohiko Okada: "Excitonic Emission in GaN Films on AIN Substrates Using Microwave-Excited N Plasma Epitaxial Growth" Ext.Abstr.1995 Int. Conf.SSDM. 695-697 (1995)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] 甲斐綾子: "マイクロ波Nピラズマを用いたGaNの生成" プラズマ応用科学. 2. 42-45 (1994)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Okada, A.Kai, Y.Yamada, T.Taguchi, H.Taniguchi, F.Sasaki, S.Kobayashi and T.Tani: "Room-temperature Exciton Luminescence from GaN Films Fabricated by Microwave-excited N Plasma Epitaxial Growth" Memoirs Faculty Engineer.Yamaguchi Univ.57. 57-61 (1996)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] A.Kai, K.Okada, Y.Yamada, T.Taguchi, F.Sasaki, S.Kobayashi, T.Tani and H.Taniguchi: "Excitonic Emission in GaN Films on AIN Substrates Using Microwave-Excited N pLasma Method" Jpn.J.Appl.Phys.35. 1424-1427 (1996)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Okada, A,Kai, Y.Yamada, T.Taguchi and H.Taniguchi: "Excitonic Emissions in GaN Films on AIN Substrates Using Microwave-Excited N Plasma Epitaxial Growth" Ext.Abstr.1995 Int.Conf.SSDM. 695-697 (1995)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] A.Kai and T.Taguchi: "Formation of GaN Using Microwave N Plasma" Institu.Appl.Plasma Sci.2. 42-45 (1994)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] 岡田 清彦: "マイクロ波窒素プラズマを用いたGaN薄膜の成長と室温励起発光" 山口大学工学部研究報告. 46・2. 57-61 (1996)

    • 関連する報告書
      1996 実績報告書
  • [文献書誌] Ayako Kai: "Excitonic Emission in GaN Films on AlN Substrates Using Microwave-Excited N Plasma Method" Japanese J.Applied Physics. 35. 693-696 (1996)

    • 関連する報告書
      1995 実績報告書
  • [文献書誌] Kiyohiko Okada: "Excitonic Emission in GaN Films in AlN Substrates Using Microwave-Excited N Plasma Epitaxial Growth" Ext.Abstr.1995 Int.Conf.SSDM. 695-697 (1995)

    • 関連する報告書
      1995 実績報告書

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公開日: 1995-04-01   更新日: 2016-04-21  

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