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2次元電子ガスへの直接ショットキーを接合を利用した量子構造の研究

研究課題

研究課題/領域番号 07837001
研究種目

基盤研究(C)

配分区分補助金
応募区分時限
研究分野 極微細構造工学
研究機関北海道大学

研究代表者

橋詰 保  北海道大学, 工学部, 助教授 (80149898)

研究分担者 呉 南健  北海道大学, 工学部, 助手 (00250481)
赤沢 正道  北海道大学, 工学部, 助教授 (30212400)
長谷川 英機  北海道大学, 工学部, 教授 (60001781)
研究期間 (年度) 1995 – 1996
研究課題ステータス 完了 (1996年度)
配分額 *注記
2,300千円 (直接経費: 2,300千円)
1996年度: 1,000千円 (直接経費: 1,000千円)
1995年度: 1,300千円 (直接経費: 1,300千円)
キーワード量子構造 / 2次元電子ガス / ショットキー障壁 / インプレーンゲート / スプリットゲート / 量子細線トランジスタ / 単電子トランジスタ / ショットキーゲート / ショットキーゲット
研究概要

本研究の目的は、半導体量子井戸中の2次元電子ガスへ直接ショットキー接合を形成し、その接合特性を理論的・実験的に解明するとともに、この接合をゲートとする電界制御によって、損傷のない新しい量子構造を実現することを目的としている。得られた主要な成果を以下にまとめる。
1)In-Situ電気化学プロセスによりAlGaAs/GaAsヘテロ接合における2次元電子ガス(2DEG)端に、直接ショットキー接合を形成する技術を開発し、これにより、インプレーンゲート量子構造を考案した。計算およびEBIC法による空乏層の直接測定やSdH振動の測定により、これらのゲート構造のゲート制御機能解析および構造の最適化を試みた。
2)インプレーンゲート形量子細線トランジスタを製作し、100Kまで、コンダクタンスの量子化が観測でき、新しいインプレーンゲート構造では、従来のスプリットゲート構造に比較して、電子の閉じこめポテンシャルが格段に大きいことが示された。
3)さらに、トレンチホールを持つAlGaAs/GaAsヘテロ接合2DEGバ-にインプレーンゲートを形成し、ゲート制御形電子波干渉デバイス(アハラノフ-ボ-ムリング)を作製した。ゲート制御によって、明瞭な磁気抵抗振動が3.3Kで観測され、その周期より、この振動がアハラノフ-ボ-ム効果による振動であることが確認された。
4)AlGaAs/GaAsヘテロ接合2DEG系にインプレーンゲートを適用した、単電子トランジスタを作製した。試作デバイスは、すべて、低温で明確なクーロン振動およびクーロンブロッケード特性を示した。特に、ゲート間隔200nmの単一ドットデバイスでは、クーロン振動を、30Kまで認めることができた。さらに、ゲート間隔を、50nm程度にすると、77K-300Kでの動作が期待できることが計算によって示された。
5)AlGaAs/GaAsヘテロ接合2DEG系に新しいゲートを適用した2重単電子トランジスタを試作した。2重ドットデバイスでは、中央のフィンガーゲートの電圧を変えると、コンダクタンスピークに、分離や融合の複雑な挙動が認められ、その振る舞いは、簡単な容量結合に基づく理論では説明し難く、特にピンチオフ近傍では量子閉じ込め準位の相互作用効果を考慮したモデルが必要であることが示唆された。

報告書

(3件)
  • 1996 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 1995 実績報告書
  • 研究成果

    (50件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (50件)

  • [文献書誌] S.Kasai: "Electron Beam Induced Current Characterization of Novel GaAs Quantum Nanostructures Based on Potential Modulation of Two-Dimensional Electron Gas by Schottky In-Plane Gates" Japanese Journal of Applied Physics. 35. 6652-6658 (1996)

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      「研究成果報告書概要(和文)」より
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  • [文献書誌] S.Uno: "0.86eV Platinum Schottky Barrier on Indium Phosphide by In Situ Electrochemical Process and Its Application to MESFETs" Japanese Journal of Applied Physics. 35. 1258-1263 (1996)

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  • [文献書誌] S.Koyanagi: "Contactless and Nondestructive Characterization of Silicon Surlaces by Capacitance-Voltage and Photoluminescence Methods" Japanese Journal of Applied Physics. 35. 946-953 (1996)

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  • [文献書誌] K.Jinushi: "Novel GaAs-Based Single Electron Transistors with Schottky In-Plane Gates Operating up to 20K" Japanese Journal of Applied Physics. 35. 1132-1139 (1996)

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  • [文献書誌] H Fujikura: "Surface Passivation of In_<0.53>Ga_<0.47>As Ridge Quantum Wires Using Silicon Interface Control Layers" Journal of Vacuum Science and Technology.B-14. 2888-2894 (1996)

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  • [文献書誌] T.Hashizume: "Contactless Capacitance-Voltage and Photoluminescence Characterization of Ultrathin Oxide-Silicon Interfaces Formed on Hydrogen Terminated (III) Surfaces" J. Vac. Sci. Technol.B-14. 2872-2881 (1996)

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  • [文献書誌] T.Hashizume: "Quantum Transport in A Schottky In-Plane-Gate Controlled GaAs/AlGaAs Quantum Well Wires" Physica B. Vol.227. 42-45 (1996)

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  • [文献書誌] H.Tomozawa: "Design and Fabrication of GaAs/AlGaAs Single Electron Transistors Based on In-Plane Schottky Gate Control of 2DEG" Physica B. 227. 112-115 (1996)

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  • [文献書誌] S.Shiobara: "Deep Level and Conduction Mechanism in Low-Temperature GaAs Grown by Molecular Beam Epitaxy" Japanese Journal of Applied Physics. 35. 1159-1164 (1996)

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  • [文献書誌] 長谷川英機: "化合物半導体量子細線および量子ドットの製作" 光学. 25巻. 448-455 (1996)

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  • [文献書誌] 長谷川英機: "化合物半導体量子構造表面のSi超薄膜界面制御層によるパッシベーション" 表面化学. 17. 567-574 (1996)

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  • [文献書誌] T.Hashizume: "Dominant Electron Trap with Metastable state in Molecular Beam Epitaxial GaAs Grown at Low Temperatures," Japanese J. Applied Physics. 36(3). 印刷中 (1997)

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  • [文献書誌] S.Kasai, T.Hashizume and H.Hasegawa: "Electron Beam Induced Current Characterization of Novel GaAs Quantum Nanostructures Based on Potential Modulation of Two-Dimensional Electron Gas by Schottky In-Plane Gates" Japanese Journal of Applied Physics. 35. 6652-6658 (1996)

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  • [文献書誌] S.Uno, T.Hasizume, S.Kasai, N.Wu and H.Hasegawa: "0.86eV Platinum Schottky Barrier on Indium Phosphide by In Situ Electrochemical Process and Its Application to MESFETs" Japanese Journal of Applied Physics. 35. 1258-1263 (1996)

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  • [文献書誌] S.Koyanagi, T.Hasizume and H.Hasegawa: "Contactless and Nondestructive Characterization of Silicon Surfaces by Capacitance-Voltage and Photoluminescence Methods" Japanese Journal of Applied Physics. 35. 946-953 (1996)

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  • [文献書誌] K.Jinushi, H.Okada, T.Hashizume and H.Hasegawa: "Novel GaAs-Based Single Electron Transistors with Schottky In-Plane Gates Operating up to 20K" Japanese Journal of Applied Physics. 35. 1132-1139 (1996)

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  • [文献書誌] H.Fujikura, S.Kodama, T.Hashizume and H.Hasegawa: "Surface Passivation of In_<0.53>Ga_<0.47>As Ridge Quantum Wires Using Silicon Interface Control Layrs" J.Vacuum Science and Technology. B-14. 2888-2894 (1996)

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      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T.Hashizume, S.Koyanagi and H.Hasegawa: "Contactless capacitance-voltage and photoluminescence characterization of ultrathin oxide-silicon interfaces" J.Vac.Sci.Technol. B14. 2872-2881 (1996)

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      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T.Hashizume, H.Okada and H.Hasegawa: "Quantum Transport in A Schottky In-Plane-Gate Controlled GaAs/AlGaAs Quantum Well Wires" Phisica B. vol.227. 42-45 (1996)

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      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] H.Tomozawa, K.Jinushi, H.Okada, T.Hashizume and H.Hasegawa: "Design and Fabrication of GaAs/AlGaAs Single Electron Transistors Based on In-Plane Schottky Gate Control of 2DEG" Phisica B. 227. 112-115 (1996)

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      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] S.Shiobara, T.Hashizume and H.Hasegawa: "Deep Level and Conduction Mechanism in Low-Temperature GaAs Grown by Molecular Beam Epitaxy" Jpn.J.Appl.Phys.35. 1159-1164 (1996)

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      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] H.Hasegawa, T.Hashizume and et al.: "Fabrication of compound semiconductor quantum wires and dots (in Japanese)" KOUGAKU. 25. 448-455 (1996)

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      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] H.Hasegawa, S.Kodama and T.Hashizume: "Surface passivation of compound semiconductor quantum structures by silicon interface control layr (in Japanese)" HYOUMEN KAGAKU. 17. 567-574 (1996)

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T.Hashizume, S.Shiobara and H.Hasegawa: "Dominant Electron trap with Metastable state in Molecular Beam Epitaxial GaAs Grown at Low Temperatures" accepted for publication in Jpn.J.Appl.Phys.vol.36, No.3. (1997)

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      1996 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T.Hashizume: "Quantum Transport in A Schottky In-Plane-Gate Controlled GaAs/AlGaAs Quantun Well Wires" Physica B. Vol. 227. 42-45 (1996)

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      1996 実績報告書
  • [文献書誌] H.Tomozawa: "Design and Fabrication of GaAs/AlGaAs Single Electron Transistors Based on In-Plane Schottky Gate Control of 2DEG" Physica B. 227. 112-115 (1996)

    • 関連する報告書
      1996 実績報告書
  • [文献書誌] S.Shiobara: "Deep Level and Conduction Mechanism in Low-Temperature GaAs Grown by Molecular Beam Epitaxy" Japanese Journal of Applied Physics. 35. 1159-1164 (1996)

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      1996 実績報告書
  • [文献書誌] 長谷川 英機: "化合物半導体量子細線および量子ドットの製作" 光学. 25巻. 448-455 (1996)

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      1996 実績報告書
  • [文献書誌] 長谷川 英機: "化合物半導体量子構造表面のSi超薄膜界面制御層によるパッシベーション" 表面化学. 17. 567-574 (1996)

    • 関連する報告書
      1996 実績報告書
  • [文献書誌] T.Hashizume: "Dominant Electron Trap with Metastable state in Molecular Beam Epitaxial GaAs Grown at Low Temperatures," Japanese J. Applied Physics. 36(3)(印刷中). (1997)

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      1996 実績報告書
  • [文献書誌] S.Kasai: "Electron Beam Induced Current Characterization of Novel GaAs Quantum Nanostructures Based on Potential Modulation of Two-Dimensional Electron Gas by Schottky In-Plane Gates" Japanese Journal of Applied Physics. 35. 6652-6658 (1996)

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      1996 実績報告書
  • [文献書誌] S.Uno: "0.86eV Platinum Schottky Barrier on Indium Phosphide by In Situ Electrochemical Process and Its Application to MESFETs" Japanese Journal of Applied Physics. 35. 1258-1263 (1996)

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      1996 実績報告書
  • [文献書誌] S. Koyanagi: "Contactless and Nondestructive Characterization of Silicons Surfaces by Capacitance-Voltage and Photoluminescence Methods" Japanese Journal of Applied Physics. 35. 946-953 (1996)

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  • [文献書誌] K. Jinushi: "Novel GaAs-Based Single Electron Transistors with Schottky In-Plane Gates Operating up to 20K" Japanese Journal of Applied Physics. 35. 1132-1139 (1996)

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  • [文献書誌] H.Fujikura: "Surface Passivaiton of In_<0.53>Ga_<0.47>As Ridge Quantum Wires Using Silicon Interface Control Layers" Journal of Vacuum Science and Techonology. B-14. 2888-2894 (1996)

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      1996 実績報告書
  • [文献書誌] T.Hashizume: "Contactless Capacitance-Voltage and Photoluminescence Characterization of Ultrathin Oxide-Silicon Interfaces Formed on Hydrogen Terminated (111) Surfaces" J. Vac. Sci. Technol.B-14. 2872-2881 (1996)

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      1996 実績報告書
  • [文献書誌] A.Malinin: "Characterization of Deep Levels in Si-doped In_xAl_<1-x>As Layers Grown by Molecular Beam Epitaxy." Jpn.J.Appl.Phys.34. 1098-1101 (1995)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] S.Kodama: "Novel Surface Passivation Scheme for Compound Semiconductor Using Silicon Interface Control Layer and Its Application to Near-Surface Quantum Wells." Jpn.J.Appl.Phys.34. 1143-1148 (1995)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] T.Hashizume: "Depletion Characteristics of Direct Schottky Contacts to Quantum Wells Formed by In Situ Selective Electrochemical Process." Jpn.J.Appl.Phys.34. 1149-1152 (1995)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] N.J.Wu: "Schottky Contacts on n-Inp with High Barrier Heights and Reduced Fermi-Level Pinning by a Novel In Situ Electrochemical Process." Jpn.J.Appl.Phys.34. 1162-1167 (1995)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] H.Okada: "Novel Wire Transistor Structure with In-Plane-Gate Using Direct Schottky Contacts to 2DEG." Jpn.J.Appl.Phys.34. 1315-1319 (1995)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] H.Hasegawa: "More than 10^3 Times Photoluminescence Intensity Recovery by Silicon Interface-Control-Layer-Based Surface Passivation of Near-Surface Quantum Wells." Jpn.J.Appl.Phys.34. L495-L498 (1995)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] T.Hashizume: "Observation of Conductance Quantization in A Novel Schottky In-Plane Gate Wire Transistor Fabricated by Low-Damage In Situ Electrochemical Process." Jpn.J.Appl.Phys.34. L635-L638 (1995)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] S.Kodama: "Photoluminescence and X-ray Photoelectron Study of AlGaAs/GaAs Near-Surface Quantum Wells by a Novel Interface Control Technique.," Jpn.J.Appl.Phys.34. 4540-4543 (1995)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] H.Hasegawa: "Fabrication and characterization of quantum wire transistors with Schottky in-plane gates formed by an in situ electrochemical process.," J.Vac.Sci.& Technol.B. 13. 1744-1750 (1995)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] S.Kodama,: "Silicon Interlayer Based Surface Passivation of Near-Surface Quantum Wells." J.Vac.Sci.& Technol.B. 13. 1794-1800 (1995)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] S.Koyanagi,: "Contactless Characterization of Thermally Oxidized,Air-Exposed and Hydrogen-Terminated Silicon Surfaces by Capacitance-Voltage and Photoluminesence Methods.," Jpn.J.Appl.Phys.,. 35. 630-637 (1996)

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  • [文献書誌] K.Jinushi,: "Novel GaAs-Based Single-Electron Transistors with Schottky In-Plane Gates Operating up to 20 K" Jap.J.Appl.Phys.,. 35. 397-404 (1996)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] S.Shiobara,: "Deep Level and Conduction Mechanism in Low-Temperature GaAs Grown by Molecular Beam Epitaxy.," Jpn.J.Appl.Phys.,. 35. 431-436 (1996)

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      1995 実績報告書
  • [文献書誌] S.Uno,: "0.86eV Platinum Schottky Barrier on Indium Phosphide by In Situ Electrochemical Process and Its Application to MESFETs.," Jpn.J.Appl.Phys.,. 35. 751-756 (1996)

    • 関連する報告書
      1995 実績報告書

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公開日: 1995-04-01   更新日: 2016-04-21  

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