| 研究課題/領域番号 |
08305033
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(A)
|
| 配分区分 | 補助金 |
|---|
| 応募区分 | 一般 |
|---|
| 研究分野 |
反応・分離工学
|
|---|
| 研究機関 | 東京大学 |
|---|
研究代表者 |
幸田 清一郎 東京大学, 大学院・光学研究科, 教授 (10011107)
|
|---|
| 研究分担者 |
奥山 喜久夫 広島大学, 工学部, 教授 (00101197)
中野 勝之 福岡大学, 工学部, 教授 (50037876)
菅原 拓男 秋田大学, 鉱山学部, 教授 (10006679)
武内 一夫 理化学研究所, 主任研究員 (10142639)
岡崎 守男 京都大学, 工学部, 教授 (90025916)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
1996 – 1997
|
| 研究課題ステータス |
完了 (1997年度)
|
| 配分額 *注記 |
8,300千円 (直接経費: 8,300千円)
1997年度: 4,100千円 (直接経費: 4,100千円)
1996年度: 4,200千円 (直接経費: 4,200千円)
|
|---|
| キーワード | 光反応制御 / 活性化学種 / レーザー反応 / 超微粒子 / 遠紫外線 / 光吸収速度 / 光触媒 / イオン誘発核生成 |
|---|
| 研究概要 |
1.本研究は、通常光源、レーザー光などの光化学反応や、活性化学種を利用した反応の制御と反応場の構築に関する基礎と、光や活性化学種を制御する装置設計に必要な光学解析を充実させ、光や活性化学種を用いた新規なプロセスを創成していく上での体系化を行うことを目的とする。個別に以下の4項目を重点項目とし、分担者がそれぞれ独自の立場で研究を推進し、また全体的な体系化を目指した。
研究項目は以下の通りである。(1)光と光量子による反応制御と素過程(2)光反応光学基礎(3)ラジカル、イオンによる反応制御と素過程(4)活性化学種反応光学基礎。個々の成果として、(1)では、レーザー合成反応光学の基礎(幸田)、レーザーによるシリコン同位体分離の素過程(武内)、レーザーによる超微粒子活性化構造の解明とその薄膜創製への応用(北本)に関して、レーザー光の特徴を生かす過程を解明した。(2)では、遠紫外線照射による超純水循環利用プロセスシステムの基礎(菅原)、不均一反応系における光吸収速度の推算・評価方法(横田)、難分解性物質を含む排水の光触媒による処理プロセス及び薄膜上半導体光触媒(中野)、紫外線照射による廃フロンの再資源化(西海)に関して、実用に連がる成果をみた。(3)では、流体中のパルス放電による各種ラジカルの生成とその反応過程(佐藤)、負イオンによる大気汚染物質除去構造の解明(田門)、CVD製膜装置内での酸素ラジカル反応による微粒子発生(足立)、イオン誘発核生成による大気汚染ガスの微粒子転換(奥山)に関して、基礎過程の検討をすすめ、実用上の問題まで展開した。(4)では、高効率ラジカル反応装置の設計手法と開発(定方)に関する新規な展開を図った。さらに全体の議論を行い、本研究の方向性の体系化を行った。
|
