• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 前のページに戻る

水素媒介新物質の物理と化学

研究課題

研究課題/領域番号 08355002
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分企画調査
研究分野 表面界面物性
研究機関大阪大学

研究代表者

尾浦 憲治郎  大阪大学, 工学部, 教授 (60029288)

研究分担者 安田 幸夫  名古屋大学, 工学研究科, 教授 (60126951)
岩澤 康裕  東京大学, 理学系研究科, 教授 (40018015)
上田 一之  豊田工業大学, 工学研究科, 教授 (60029212)
塚田 捷  東京大学, 理学系研究科, 教授 (90011650)
河津 璋  東京大学, 工学系研究科, 教授 (20010796)
研究期間 (年度) 1996
研究課題ステータス 完了 (1996年度)
配分額 *注記
2,600千円 (直接経費: 2,600千円)
1996年度: 2,600千円 (直接経費: 2,600千円)
キーワード水素媒介新物質 / 水素変性 / 水素生態 / エピタキシ- / 水素終端表面
研究概要

水素は地球上に無尽蔵に存在する元素であり、最も単純で小さな反応性元素である。最近、水素が様々な材料作製プロセスや表面プロセスに大きな影響を及ぼして、物性や構造、あるいは反応性を支配することがわかってきた。それらは、Siやダイヤモンドなどの半導体、アモルファス金属、あるいは酸化物表面に担持された金属超微粒子であり、いずれも高度情報、エネルギー、資源などの当面する緊急の課題に密接な物質群である。これら諸問題に対処し解決するためには、水素の役割を理解し、水素に関連した物質科学を発展させ、水素を媒介とする新物質創製・制御プロセスを構築することが必要である。本研究では、水素を媒介として新物質・新構造を創製するための科学技術を確立するために、これを重点領域研究分野として申請・創設するための調査・企画・立案を行なうことを目的とした。研究連絡会議や研究成果報告講演会の開催をとおして、各研究者が連絡を密にとりながら、(1)水素変性表面の物理、(2)水素のその場解析と化学反応プロセスの制御、(3)水素による高精度シリコンデバイスプロセスの研究開発、(4)水素媒介による新物質創製の各分担課題について調査を行ない、問題点の整理、重点課題、具体的な研究手法、研究推進のための組織などについて検討を行なった。

報告書

(1件)
  • 1996 実績報告書
  • 研究成果

    (6件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (6件)

  • [文献書誌] K.Oura 他4名: "Atomic-hydrogen-induced Ag cluster formation on Si(111)-√<3>×√<3>-Ag surface Observed by Scanning tunneling microscopy" J.Vac.Sci.Technol.B14. 988-991 (1996)

    • 関連する報告書
      1996 実績報告書
  • [文献書誌] K.Ueda 他1名: "Surfactant effect of hydrogen for nickel growth on Si(111)7×7 surface" Surt.Sci.357-358. 910-916 (1996)

    • 関連する報告書
      1996 実績報告書
  • [文献書誌] H.Hattori 他1名: "Spillover of hydrogen Over zirconium oxide promoted by sulfate ion and platinum" Applied Catalysis. A146. 157-164 (1996)

    • 関連する報告書
      1996 実績報告書
  • [文献書誌] K.Domen 他11名: "Vibrational relaxation of hydroxyl groups in zeolite:the effect of adsorbed Xe" Surt.Sci.363. 397-402 (1996)

    • 関連する報告書
      1996 実績報告書
  • [文献書誌] M.Mishijima 他6名: "Quantum delocalization of H on Pd(110):a vibrational study" Phys.Rev.B53. 13767-13771 (1996)

    • 関連する報告書
      1996 実績報告書
  • [文献書誌] T.Hattori 他6名: "Initial stage of oxidation of hydrogen-terminated silicon surfaces" Appl.Surf.Sci.104/105. 323-328 (1996)

    • 関連する報告書
      1996 実績報告書

URL: 

公開日: 1996-04-01   更新日: 2016-04-21  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi