研究課題/領域番号 |
08355002
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研究種目 |
基盤研究(B)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 企画調査 |
研究分野 |
表面界面物性
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研究機関 | 大阪大学 |
研究代表者 |
尾浦 憲治郎 大阪大学, 工学部, 教授 (60029288)
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研究分担者 |
安田 幸夫 名古屋大学, 工学研究科, 教授 (60126951)
岩澤 康裕 東京大学, 理学系研究科, 教授 (40018015)
上田 一之 豊田工業大学, 工学研究科, 教授 (60029212)
塚田 捷 東京大学, 理学系研究科, 教授 (90011650)
河津 璋 東京大学, 工学系研究科, 教授 (20010796)
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研究期間 (年度) |
1996
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研究課題ステータス |
完了 (1996年度)
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配分額 *注記 |
2,600千円 (直接経費: 2,600千円)
1996年度: 2,600千円 (直接経費: 2,600千円)
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キーワード | 水素媒介新物質 / 水素変性 / 水素生態 / エピタキシ- / 水素終端表面 |
研究概要 |
水素は地球上に無尽蔵に存在する元素であり、最も単純で小さな反応性元素である。最近、水素が様々な材料作製プロセスや表面プロセスに大きな影響を及ぼして、物性や構造、あるいは反応性を支配することがわかってきた。それらは、Siやダイヤモンドなどの半導体、アモルファス金属、あるいは酸化物表面に担持された金属超微粒子であり、いずれも高度情報、エネルギー、資源などの当面する緊急の課題に密接な物質群である。これら諸問題に対処し解決するためには、水素の役割を理解し、水素に関連した物質科学を発展させ、水素を媒介とする新物質創製・制御プロセスを構築することが必要である。本研究では、水素を媒介として新物質・新構造を創製するための科学技術を確立するために、これを重点領域研究分野として申請・創設するための調査・企画・立案を行なうことを目的とした。研究連絡会議や研究成果報告講演会の開催をとおして、各研究者が連絡を密にとりながら、(1)水素変性表面の物理、(2)水素のその場解析と化学反応プロセスの制御、(3)水素による高精度シリコンデバイスプロセスの研究開発、(4)水素媒介による新物質創製の各分担課題について調査を行ない、問題点の整理、重点課題、具体的な研究手法、研究推進のための組織などについて検討を行なった。
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