| 研究課題/領域番号 |
08455046
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(B)
|
| 配分区分 | 補助金 |
|---|
| 応募区分 | 一般 |
|---|
| 研究分野 |
応用物理学一般
|
|---|
| 研究機関 | 立命館大学 |
|---|
研究代表者 |
杉山 進 立命館大学, 理工学部, 教授 (20278493)
|
|---|
| 研究分担者 |
田畑 修 立命館大学, 理工学部, 助教授 (20288624)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
1996 – 1998
|
| 研究課題ステータス |
完了 (1998年度)
|
| 配分額 *注記 |
2,100千円 (直接経費: 2,100千円)
1998年度: 500千円 (直接経費: 500千円)
1997年度: 1,600千円 (直接経費: 1,600千円)
|
|---|
| キーワード | X線リソグラフィ / 高アスペクト比構造 / シンクロトロン放射光 / X線マスク / LIGAプロセス / 電鋳 / マイクロアクチュエータ / ワブルモータ / Niめっき / ディープX線リソグラフィー / 高アスペクト微細構造体 / Ni電鋳 / 高アスペクト比微細構造体 |
|---|
| 研究概要 |
1. シンクロトロン放射(SR)光を応用した高アスペクト比X線リソグラフィ(LIGA)の最適条件の把握
世界最小の超伝導小型SR光装置「AURORA」(1996年春運転開始・立命館大学)に、LIGA専用ビームラインを設置・稼働した。SR光の照射条件(強度、時間等)とレジスト加工条件を明らかにして、SR光ドーズ量3Aminで深さ200μm、また、ドーズ量32Aminで深さ1000μmのPMMAの微細構造体を実現した。
2. 高アスペクト比X線リソグラフィ(LIGA)用マスクの設計・製作
パターン設計CADシステムを用いてマスクパターンを設計し、厚さ2μmのSiCメンブレン上に厚さ5μmのAuをX線吸収材とし、最適X線露光コントラストを有するLIGAプロセス用X線マスクを製作した。本X線マスクを用い、線幅2μm、高さ200μm、アスペクト比100のPMMAレジストパターンのX線露光、現像加工およびNi電鋳を行いNiマイクロ構造体を製作した。
3. 3次元構造高出力マイクロアクチュエータの設計、試作、評価
シンクロトロン放射(SR)光を応用した高アスペクト比X線リソグラフィと電鋳を組み合わせたLIGAプロセスを用い、櫛歯電極型静電マイクロアクチュエータおよび静電ワブルモータを試作した。アクチュエータの基本構造は、Ni構造体による固定電極および可動電極、Niシードレイヤー、SiO_2絶縁層および犠牲層、そしてSi基板から構成されている。Ni構造体の高さは100μm、最小線幅2μm、最小ギャップ2μm、最大アスペクト比50である。試作した櫛歯電極型静電マイクロアクチュエータは約65Vのパルス電圧印加および静電ワブルモータは約125Vの12相パルス電圧によって駆動が確認された。
|
