| 研究課題/領域番号 |
08455137
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
電子・電気材料工学
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
阿部 正紀 東京工業大学, 工学部, 教授 (70016624)
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| 研究分担者 |
白崎 文男 東京工業大学, 工学部, 教務職員
北本 仁孝 東京工業大学, 工学部, 助手 (10272676)
白崎 文雄 東京工業大学, 工学部, 教務職員
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| 研究期間 (年度) |
1996 – 1997
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| 研究課題ステータス |
完了 (1997年度)
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| 配分額 *注記 |
7,800千円 (直接経費: 7,800千円)
1997年度: 2,300千円 (直接経費: 2,300千円)
1996年度: 5,500千円 (直接経費: 5,500千円)
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| キーワード | フェライトメッキ / マグネタイト / Ni-Znフェライト / 超音波 / フェライト薄膜 / フェライトカプセル球 |
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| 研究概要 |
19.5kHz、600Wの低周波超音波だけでなく、1.6MHz、20Wの高周波超音波を同時に印加することによって作製したマグネタイト(Fe_3O_4)膜は、低周波超音波のみの場合と比較して表面平滑性が向上したが、膜堆積速度が2nm/minと低かった。そこで、FeCl_2水溶液の供給を間欠的から連続的方法に変え、19.5kHz、600Wの低周波超音波のみを印加しながらマグネタイト膜を作製したところ、平滑性を保ったまま、その膜堆積速度が4nm/minと2倍に増加していた。さらに、反応槽を150mlから15mlに小型化し超音波のエネルギー密度を増加させることにより、膜堆積速度を20nm/minに向上させることができた。
反応液としてFeCl_2+NiCl_2+ZnCl_2、酸化液としてNaNO_2+CH_3COONH_4を連続的に供給し、低周波強力超音波(19.5kHz)のみ、あるいは高周波超音波(1.6MHz、20W)をも同時に印加することにより、水溶液温度75℃でFe_<3-x-y>Ni_xZn_yO_4のメッキを行った。これによって超音波を印加しない方法でのNiの固溶限界(x=0.35)を向上させることができた。さらに低・高周波超音波を同時に印加することにより固溶量をx=0.48まで高めることに成功した。
以上のとおり本年度は、反応槽への水溶液の連続的供給によって膜堆積速度が向上し、また超音波の印加によりNi-Znフェライト膜においてNiの固溶量が増加することを明らかにした。
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