| 研究課題/領域番号 |
08455425
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
合成化学
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| 研究機関 | 豊橋技術科学大学 |
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研究代表者 |
西山 久雄 豊橋技術科学大学, 工学部, 教授 (40135421)
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| 研究期間 (年度) |
1996 – 1998
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| 研究課題ステータス |
完了 (1998年度)
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| 配分額 *注記 |
7,100千円 (直接経費: 7,100千円)
1998年度: 1,200千円 (直接経費: 1,200千円)
1997年度: 2,000千円 (直接経費: 2,000千円)
1996年度: 3,900千円 (直接経費: 3,900千円)
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| キーワード | 窒素配位子 / 光学活性 / 不斉誘導 / 立体制御 / 触媒反応 / 不斉合成 / ルテニウム / ミクロプロバン化 / エポキシ化 / オキサゾリン / ルテニウム錯体 / 立体選択性 / 酸化反応 / ピリジン系配位子 / 不斉エポキシ化 / ジアセトキシヨードベンゼン / オレフィン / 金属錯体 |
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| 研究概要 |
1) 高次窒素配位子としてオキサゾリンピリジン系を選択し、不斉シクロプロパン化の中間体であるカルベン錯体の単離構造決定に成功した。不斉誘導を伴うシクロプロパン化反応でカルベンが金属錯体上に補足された初めてで貴重な例となった。分子軌道法によるカルベン周りの構造について明らかにした。またシングルキラルであるオキサゾリン配位子を合成し中間体から考察できる反応方向を予測して反応を行なったところ、事実高い不斉誘導が見いだされた。
2) シングルキラルオキサゾリン配位子を設計し不斉シクロプロパン化に有効であることを実証した。
3) キラルオキサゾリン錯体が、オレフィン類のプロキラル面を選択して配位させることができることを発見した。
4) オキサゾリンベンゼン系配位子を合成し、X線構造解析を行なうとともに不斉触媒反応としてアリルスズによるアルキル化反応に成功した。また、オレフィンのプロキラル面選択配位を試みたところ100%の選択率で配位されるオレフィン類が発見されるとともに電子吸引性基を有するオレフィンの安定配位を事実を発見した。
以上、研究課題の主要な目的をほぼ果たす成果を得ることができ、合目的化合物を効率的に合成するプロセス開発に貢献するものと考える。
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