研究課題/領域番号 |
08457580
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研究種目 |
基盤研究(B)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
化学系薬学
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研究機関 | 東京大学 |
研究代表者 |
柴崎 正勝 東京大学, 大学院薬学系研究科, 教授 (30112767)
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研究分担者 |
荒井 孝義 東京大学, 大学院薬学系研究科, 助手 (80272483)
笹井 宏明 東京大学, 大学院薬学系研究科, 助教授 (90205831)
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研究期間 (年度) |
1996 – 1997
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研究課題ステータス |
完了 (1997年度)
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配分額 *注記 |
7,600千円 (直接経費: 7,600千円)
1997年度: 3,700千円 (直接経費: 3,700千円)
1996年度: 3,900千円 (直接経費: 3,900千円)
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キーワード | アルドール / 不斉触媒 / バラジウム / エノールシリルエーテル / パラジウム / エノールシ / 触媒的不斉合成 / シリルエノールエーテル / BINAP |
研究概要 |
アルドール反応の直接的不斉触媒化に成功例はこれまで報告されていない。シリエノールエーテル経由向山アルドール反応が、ルイス酸により不斉触媒反応に展開されている例が多くの研究グループから発表されている段階である。このうち、東工大の中井、三上らによる触媒的不斉反応が最も効率が高いと考えられるが、厳密な無水条件下5mol%の不斉ルイス酸の使用が必須というレベルにとどまっている。又、不斉ルイス酸の活用という点で、複雑な構造の基質にどこまで適用可能かという問題点も残されている。研究代表者らは、上記種々の問題点の一部でも解決すべく、概念的に新しい触媒不斉反応の検討を行った。具体的には、不斉パラジウム触媒を活用する触媒的不斉アルドール反応の開発であり、本反応が不斉パラジウムエノラート経由の反応であることを確認した。又、このアルドール反応が少量の水の存在下でも進行するという極めて興味深い知見を得、これまでの不斉ルイス酸型アルドール反応を凌駕する反応に発展する可能性が高い。そのため、不斉パラジウム触媒構造の決定、反応機構の解明を含む徹底的な検討も行った。
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