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半導体ナノ構造電子エネルギートポグラフ解析装置

研究課題

研究課題/領域番号 08555018
研究種目

基盤研究(A)

配分区分補助金
応募区分展開研究
研究分野 応用物理学一般
研究機関京都工芸繊維大学 (1997)
京都大学 (1996)

研究代表者

更家 淳司 (1997)  京都工芸繊維大学, 工芸学部, 教授 (90026154)

吉本 昌広 (1996)  京都大学, 工学研究科, 講師 (20210776)

研究分担者 松村 信男  京都工芸繊維大学, 工芸学部, 助手 (60107357)
吉本 昌広  京都工芸繊維大学, 工芸学部, 助教授 (20210776)
木本 恒暢  京都大学, 工学研究科, 助手 (80225078)
冬木 隆  京都大学, 工学研究科, 助教授 (10165459)
松波 弘之  京都大学, 工学研究科, 教授 (50026035)
研究期間 (年度) 1996 – 1997
研究課題ステータス 完了 (1997年度)
配分額 *注記
14,800千円 (直接経費: 14,800千円)
1997年度: 4,600千円 (直接経費: 4,600千円)
1996年度: 10,200千円 (直接経費: 10,200千円)
キーワード極微領域ホトルミネセンス像 / 極低温測定 / 極微領域電子構造 / レーザー顕微鏡 / 半導体極微構造 / ピエゾアクチュエータ / 半導体特性マッピング / nano structure
研究概要

1,目的: 本研究はホトルミネセンス(PL)、反射・透過率測定、光導電率測定など光を励起源とした測定法で、解像度を理論的極限にまで高めた信号像(トポグラフ)を極低温で得ることを目的としている。
2,高解像度対物レンズを用いたトポグラフ解析装置の設計・試作: 高解像度対物レンズおよび独自に設計した熱絶縁機構、防振機構を用いたトポグラフ解析装置を試作した。精密な位置決めにはピエゾアクチュエータを用い、試料の冷却にはヘリウム循環式極低温冷却器を用いた。
3,試作装置の性能実証: 二酸化シリコンのサブミクロン極微細パターンを持つSiを試料とし、反射像を観察し、所期の解像度を得た。
4,Si基板上GaAsPの局所PLの観測: 有機金属分子線エピタキシャル(MOMBE)法でSi基板上に成長したGaAsPの局所PLを測定した。GaAsPは面内に組成分布をもつため、局所PLを測定することによりPL特性の組成依存性を精密評価した。GaAsPのPL測定では2つのPLピークが観測される。励起光強度依存性と時間分解特性から、2つのピークはともにドナーアクセプタペアによる発光であることが明らかとなった。発光強度の組成依存性から、2つのピークには、成長層内の空孔が関与していると考えられる。
5,今後の展開: 本研究により、理論限界に迫る解像度が極低温で得られる光学特性測定装置を実現した。今後、より微細な構造(ナノ構造)をもつ半導体材料・デバイスの光学特性を測定することにより、本装置を用いた電子構造の解析法を確立する。

報告書

(3件)
  • 1997 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 1996 実績報告書
  • 研究成果

    (6件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (6件)

  • [文献書誌] Masahiro Yoshimoto: "Growth of Iuminescent GaAsP on Si substrate by metalorganic moleculer beam epitaxy using GaP buffer layer" Japanese J. Applied Physics. 37(印刷中). (1998)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1997 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Masahiro Yoshimoto: "GaN Growth on sapphire and 6H-SiC by metalorganic molecular beam epitaxy" J.Crystal Growth. (印刷中). (1998)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1997 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Masahiro Yoshimoto, Yasuhiro Watanabe, Hiroyuki Matsunami: "Growth of luminescent GaAsP on Si substrate by metalorganic molecular beam epitaxy using Gap buffer layr" Japanese J.Applied Physics. 37, (in press). (1998)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1997 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Masahiro Yoshimoto, Akira Hatanaka, Hiroyuki Matsunami: "GaN Growth on sapphire and 6H-SiC by metalotganic molecular beam epitaxy" J.Crystal Growth. (in press). (1998)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1997 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Masahiro Yoshimoto: "Growth of Iuminescent GaAsP on Si substrate by metalorganic moleculer beam epitaxy using GaP buffer layer" Japanese J.Applied Physics. 37(印刷中). (1998)

    • 関連する報告書
      1997 実績報告書
  • [文献書誌] Masahiro Yoshimoto: "GaN Growth on sapphire and 6H-SiC by metalorganic molecular beam epiaxy" J.Crystal Growth. (印刷中). (1998)

    • 関連する報告書
      1997 実績報告書

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公開日: 1996-04-01   更新日: 2016-04-21  

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