| 研究概要 |
微細加工技術を用いる光導波路の作製を行うとともに,超高密度光磁気記録に適した記録媒体の検討を行った。また,0.1ミクロン以下の記録を行う場合について,その記録状態が安定に存在しうるかどうかを計算機シミュレーションによって検討した。以下に研究成果をまとめる.
(1) 導波路用の材料としてTa_2O_5膜を選定し,Ta_2O_5膜の成膜を高周波2極スパツタリンク装置によって行った。成膜は,Ar中およびAr+O_2プラズマ中で行い,プラズマ中の酸素濃度などを制御することによって光透過率の高い酸化膜を作製した。作製した膜を半導体用の光リソグラフイプロセスによって微細加工し,導波路を作製した。導波先端の幅は2μである。
(2) 光磁気記録材料としてNdGd/FeCo多層膜,MnPt3/CoやMnPt_3/CoPt_3人工格子およびCoPt規則合金膜の検討を行った。これらのうちCoPt規則合金膜とNdGd/FeCo多層膜は短波長域で大きなKerr回転角を示し,ブルーレーザによる記録再生に適していることが分かった。
(3) 計算機シュミレーションによってどの程度の小さな磁区が光熱磁気記録できるか,また,小さな磁区を書き込むためには磁気異方性の値やその温度特性がどのようなものであることが必要があるかなどについて検討を行った。その結果,光ビーム径を0.1ミクロンに絞ることによって0.15〜0.2ミクロンの微小磁区が書き込むことができることが明らかとなった。
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