| 研究課題/領域番号 |
08555217
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| 研究種目 |
基盤研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 展開研究 |
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| 研究分野 |
無機工業化学
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| 研究機関 | 三重大学 |
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研究代表者 |
神谷 寛一 三重大学, 工学部, 教授 (00024597)
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| 研究分担者 |
清水 泰雄 東燃株式会社, 技術開発研究所, 研究員
橋本 忠範 三重大学, 工学部, 助手 (10271016)
那須 弘行 三重大学, 工学部, 助教授 (20189179)
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| 研究期間 (年度) |
1996 – 1998
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| 研究課題ステータス |
完了 (1998年度)
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| 配分額 *注記 |
7,700千円 (直接経費: 7,700千円)
1998年度: 800千円 (直接経費: 800千円)
1997年度: 700千円 (直接経費: 700千円)
1996年度: 6,200千円 (直接経費: 6,200千円)
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| キーワード | シリカガラス / コーティング / ゾル-ゲル法 / ポリシラザン法 / アルコキシド / ペルヒドロポリシラザン / X線解析 / 微細構造 / ポリシラザン / 薄膜 / X線動径分布解析 / 赤外分光スペクトル / シリコンアルコキシド / シリカガラスコーティング / ガラス構造解析 / NH_4F触媒 / 屈折率 |
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| 研究概要 |
溶液の塗布によってシリカガラス薄膜をコーティングする技術の確立は、半導体、プラスチックスや金属基板の保護や高機能化の観点からますます重要になっている。本研究はそのために開発されているアルコキシドを原料とするゾル-ゲル法とポリシラザン塗膜の空気酸化を利用する方法に関し、問題点を把握し、両方法の長所を組み合わせることによって実用化に近づけるために実施されたものである。
ゾル-ゲル法では、コーティングは安価で容易であるが、緻密なガラスにするためには600〜800℃の加熱温度が必要とされているので、果たして原理的にガラス化温度を下げることは可能か否かを知るため、ゲルの微細構造をX線解析法により詳細に調査した。その結果、ゲルはSiO_4四面体の四員環構造から成り、六員環を主体とするガラスにするため熱処理は不可欠であると考えられた。そこで、四員環の生成を抑え、六員環構造をもつゲルの合成法を開発した。しかし、このコーティング膜はなお多孔性であった。
一方、ペルヒドロポリシラザン(PHPS)膜は450℃での空気酸化により緻密なガラスコーティング膜に容易に変換される。しかし、さらに低い温度でガラス化を達成するにはSi-H基を除去する必要があることが分かり、その目的に合致するPHPSを合成した。しかし原料は高価であるため、実用化をさらに展開することは困難と判断された。
そこで、PHPSを用いる方法と低コストのゾル-ゲル法を組み合わせ、PHPSからのシリカでゾル-ゲルシリカの孔を埋めることを考えた。六員環構造を持つシリカゾルとポリシラザンを例えば9:1で混合してコーティングした膜は、ゾル-ゲル法単独で得られる膜よりも低い温度でガラス化することが分かった。以上の結果は、シリカガラスコーティングの実用展開に資するものである。
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