| 研究課題/領域番号 |
08650246
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
熱工学
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| 研究機関 | 長岡技術科学大学 |
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研究代表者 |
青木 和夫 長岡技術科学大学, 工学部, 教授 (60115095)
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| 研究期間 (年度) |
1996 – 1997
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| 研究課題ステータス |
完了 (1997年度)
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| 配分額 *注記 |
2,500千円 (直接経費: 2,500千円)
1997年度: 800千円 (直接経費: 800千円)
1996年度: 1,700千円 (直接経費: 1,700千円)
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| キーワード | マイクロ波加熱 / 乾燥 / 導波管 / 粒子層 / 電磁場 / 反射 / 成層構造 / 気液二相流 / 毛管力 / 三次元 / 熱物質伝達 |
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| 研究概要 |
矩形導波管内に設置された物質のマイクロ波加熱による乾燥過程を明らかにすることを目的としてはじめに、マイクロ波の反射・吸収・透過を考慮して多層物体内の加熱特性を電磁場と熱の複合現象として基礎的に取り扱うとともに、マイクロ波加熱による乾燥過程を実験的に取り扱い、以下の結果を得た。
1. 矩形導波管内でマイクロ波の照射方向に直列に配置された多層物体の加熱を取り扱い、物体の誘電特性および層厚さがマイクロ波の反射および定在波の形成を通して加熱特性に大きく影響を及ぼすことを理論的・実験的に明らかにした。
2. 多層物体に対するマイクロ波加熱の特性を考慮して、物体加熱に及ぼす反射防止層の厚さおよび設置位置の効果を明らかにするとともに多層物体加熱の最適化について検討した。
3. マイクロ波加熱による乾燥では、乾燥層が低誘電体層となりマイクロ波の減衰が生じないため、乾燥層の温度上昇を抑えた乾燥過程をとることを実験的に明らかにした.
4. 通常の表面加熱による乾燥では、乾燥層が熱および物質移動の抵抗になるのに対して、マイクロ波加熱による乾燥では、乾燥層が物質移動の抵抗となるが熱移動の抵抗にはならないため比較的均一な乾燥速度で乾燥が進行することを実験的に明らかにした.
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