| 研究課題/領域番号 |
08651053
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
高分子合成
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| 研究機関 | 広島大学 |
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研究代表者 |
飯澤 孝司 広島大学, 工学部, 助教授 (60130902)
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| 研究期間 (年度) |
1996 – 1997
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| 研究課題ステータス |
完了 (1997年度)
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| 配分額 *注記 |
2,300千円 (直接経費: 2,300千円)
1997年度: 500千円 (直接経費: 500千円)
1996年度: 1,800千円 (直接経費: 1,800千円)
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| キーワード | エステル化 / アクリル酸ゲル / コアーシェル型ゲル / ゲルカプセル / 徐放材料 / 反応解析 / 疎水化 |
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| 研究概要 |
本研究では、アルキルハライドの拡散を利用しアクリル酸DBU塩ゲル(DAA)を外部からエステル化することにより、外部が疎水性のアクリル酸エステルゲル、内部が親水性のアクリル酸DBU塩ゲルの疎水性-親水性傾斜ゲルの合成を検討した。円柱状に合成したDAAをアルキルハライドの溶液に浸け外部よりエステル化すると、溶媒に膨潤した反応部分と内部の未反応の未膨潤部分からなるコアーシェル型ゲルが合成できることを明らかにした。さらに、この境界の直径rと元の外径Rとの反応率を求め、反応の経時変化を測定した。この反応は、アルキルハライドおよび溶媒のゲル内への拡散とエステル化の複合反応であり、エステル化速度、膨潤層の拡散速度、未膨潤層の拡散速度の3種の速度で決定され、それぞれの速度により、3種の特徴的な律速段階1)膨潤層の拡散律速、2)反応律速、3)未膨潤層の拡散律速(反応領域が未膨潤部分に広がりエステル化率の傾斜が現れる)があることを明らかにした。また、用いるアルキルハライドの反応性とかさ高さにより、大きく反応の過程が変化することが判明した。さらに、疎水性のポリ(t-ブチルアクリラート)ゲルの内部を選択的に加水分解することにより同様のゲルカプセルが合成できることを見出した。これまで得られた結果に基づき種々の疎水膜を持つコアーシェル型のゲルカプセルを合成し徐放材料としての性能について検討した結果、合成したゲルカプセルは疎水性のシェル層の構造や膜厚により内部のコア層からの化学物質の徐放速度が制御でき、徐放材料として有用であることが明らかになった。
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