| 研究課題/領域番号 |
08751014
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| 研究種目 |
奨励研究(A)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
合成化学
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| 研究機関 | 岡山理科大学 |
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研究代表者 |
折田 明浩 岡山理科大学, 工学部, 助手 (30262033)
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| 研究期間 (年度) |
1996
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| 研究課題ステータス |
完了 (1996年度)
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| 配分額 *注記 |
1,000千円 (直接経費: 1,000千円)
1996年度: 1,000千円 (直接経費: 1,000千円)
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| キーワード | ルイス酸 / 不斉反応場 / ビナフチル基 / 立体配置 / カ-バメート / スズ |
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| 研究概要 |
申請者は一方の金属がルイス酸として働き、もう一方の金属が立体的かさ高さによって、ルイス酸中心金属上に不斉反応場を与えるような分子の設計、および不斉合成への応用を検討した。
まず始めに不斉配位子としてビナフチル基、ルイス酸中心金属としてスズを有する錯体の合成を行なった。ビナフチル基はその立体的な嵩高さばかりでなく対称性の良さ(C2対称)から不斉有機合成反応にしばしば用いられる不斉配位子であり、高い不斉誘起能の発現が期待される。また、ルイス酸中心金属として取り上げたスズは、スズ上の置換基を変えることにより反応性の制御が可能であり、種々な反応性をもつスズ触媒の合成が可能であると考えた。
次にこのスズ化合物を触媒に用い、炭素-炭素結合生成反応を検討したが、いずれの場合にも反応はほとんど進行せず、目的化合物は得られなかった。この原因として、ここで用いたスズ触媒がルイス酸として弱すぎるために炭素-炭素結合が生成しなかったものと解析した。そこで、弱いルイス酸で十分に進行する反応として、アルコールとイソシアネートによるカ-バメート合成反応を行なった。この反応では基質としてC2対称面を持つジオールを用い、片側のアルコールだけを反応させることにより、光学活性なカ-バメートを得ることができた。生成物であるカ-バメートはHPLCによりその光学過剰率を算出した。さらに種々の反応温度でこの反応を行なったところ、反応温度に対する光学過剰率(ee)の逆転現象という興味ある現象が観測された。一般に、不斉合成反応では反応温度が低下するにつれ生成物のeeが高くなる。ところが本反応では、反応温度が低下するにつれて生成物のeeも低下し、遂には主生成物の立体配置の逆転が観測された。このような現象はこれまでに報告されておらず、現在はそのメカニズムについて検討を行なっている。
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