| 研究課題/領域番号 |
08874038
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| 研究種目 |
萌芽的研究
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
物理学一般
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
寺嶋 和夫 東京大学, 大学院・工学系研究科, 助教授 (30176911)
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| 研究期間 (年度) |
1996 – 1997
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| 研究課題ステータス |
完了 (1997年度)
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| 配分額 *注記 |
2,400千円 (直接経費: 2,400千円)
1997年度: 1,000千円 (直接経費: 1,000千円)
1996年度: 1,400千円 (直接経費: 1,400千円)
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| キーワード | ナノスケールワールド / エキゾチックプラズマ / マイクロスケールプラズマ / ピエゾアクチュエーター / リソグラフィー / プラズマ環境STM / プラズマ-固体界面 / マイクロ・プラズマ / ナノスケール・プラズマ / マルチプローブ / 微小ラングミュアープローブ法 / 超高密度プラズマ |
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| 研究概要 |
(1)リソグラフィー電極を用いたマイクロスケールプラズマの発生
半導体リソグラフィー技術により、作製したミクロンオーダーのギャップ電極を用いプラズマの発生に成功した。プラズマ生成におけるパッションのルールのマイクロスケールの世界での成立を確認するなどマイクロスケールでのプラズマ発生法の大きな手法となることが期待される。
(2)プラズマ環境STMの開発
プラズマの極小領域(ナノワールド)物性以下のような新たな要素技術の開発を行ない、その集積としてのプラズマ環境STMのを完成させた。
(A)プラズマ環境STM用プローブ(ガラス被覆/先端数μm露出/Pt-Ir製)の開発
(B)プラズマ環境STM用耐高電圧(1kV)高精度(10fA)電流計の開発
(C)プラズマ環境STM用チャンバー(2重防振構造)の作製
(D)プラズマ環境STM用コンパクト高周波(440MHZ)プラズマ発生装置の作製
上記装置を用い、STMの標準試料であるHOPG高配向性グラファイトのプラズマ照射下でのSTM観察を行ない、ナノステップ像および格子像観察に成功を収めた。プラズマ環境下での固体表面のナノ構造STM観察に成功した本研究は、ナノスケールでの固体-プラズマ界面研究の新たな扉を切り開くものである。
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