| 研究課題/領域番号 |
09450353
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
高分子合成
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| 研究機関 | 九州大学 |
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研究代表者 |
入江 正浩 九州大学, 大学院・工学研究科, 教授 (30001986)
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| 研究分担者 |
竹下 道範 九州大学, 大学院・工学研究科, 助手 (40274534)
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| 研究期間 (年度) |
1997 – 1998
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| 研究課題ステータス |
完了 (1998年度)
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| 配分額 *注記 |
1,200千円 (直接経費: 1,200千円)
1998年度: 1,200千円 (直接経費: 1,200千円)
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| キーワード | デンドリマー / フォトクロミズム / 蛍光消光 / 自由体積 / デンドリュー / 蛍光 / デンドリマ- |
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| 研究概要 |
デンドリマーの物性・機能を光御制することをめざして、フォトクロミック官能基あるいは蛍光性官能基を中心部にもつ光応答性デンドリマーを合成し、それらの光応答性を評価することを目的とした。得られた成果は以下のとうりである。
1. フォトクロミック官能基ビス(2,4-ジメチル-5-フェニル)ペルフルオロシクロペンテンを中心部にもつベンジルエーテル型のデンドリマーを第3世代まで合成した。バルキーなベンジルエーテル基を導入すれば、パラレルコンフォメーションの割合が減少し、光閉環反応量子収率が増大すると期待される。しかし、NMR測定から見積もられたパラレル体/アンチパラレル体には、第一世代〜第3世代いずれにも有意な差は認められず、また、トルエン中の光閉環反応量子収率にも差は現れなかった。この結果は、デンドリマーの中心部は、ジアリールエテンのパラレル/アンチパラレルの交換ができる程に十分自由体積の大きいことを示している。
2. 上記の第3世代デンドリマーをベンゼンに溶解し、その溶液をマイカ表面にリンスした所、150nm径のドットが約1μmの間隔で規則正しく形成されることを見出した。これは,新しい組織構造形成法になりうる。
3. アントラセン基を中心部にもつ蛍光性ベンジルエーテル型デンドリマーおよびアミノ基を中心部にもつ消光剤ベンジルエーテル型デンドリマーをそれぞれ合成し、デンドリマー中心部の化学反応性を明らかにするべく、蛍光消光実験を行った。動的消光と静的消光が混在し、世代が大きくなるとともに静的消光の割合が増加した。
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