研究課題/領域番号 |
09555104
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研究種目 |
基盤研究(B)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 展開研究 |
研究分野 |
電子・電気材料工学
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研究機関 | 仙台電波工業高等専門学校 |
研究代表者 |
羽賀 浩一 仙台電波工業高等専門学校, 教授 (30270200)
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研究分担者 |
渡辺 英夫 仙台電波工業高等専門学校, 校長 (70005255)
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研究期間 (年度) |
1997 – 1999
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研究課題ステータス |
完了 (1999年度)
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配分額 *注記 |
9,600千円 (直接経費: 9,600千円)
1999年度: 700千円 (直接経費: 700千円)
1998年度: 2,700千円 (直接経費: 2,700千円)
1997年度: 6,200千円 (直接経費: 6,200千円)
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キーワード | 酸化亜鉛 / 導電率 / 感光体 / Liドーピング / MO-CVD / 有機金属 / ZnO / 低電子制御 / 積層薄膜 / ドーピング / スパッタリング / 価電子制御 |
研究概要 |
本報告は、平成9・10・11年度文部省科学研究補助金(基盤研究(B)(2))により進めた『高精細レーザープリンタ用感光体材料に関する研究』の研究成果をまとめたものである。 近年、画像処理技術が発展し、デジタルカメラやスキャナー等の入力機器の高精細化が進みつつある。しかし、出力機器である各種プリンターは1200dpiまでの高精細化が進んだものの、3600dpiの分解能を有する銀塩写真のレベルには至っていない。この分解能を到達するには、レーザープリンターに使用するレーザー光源を近紫外領域に変える必要があった。 この研究では、高精細レーザープリンター用の光源として近紫外光を用い、この光源に適した感光体材料として酸化亜鉛材料が検討された。この材料の作成法としては、作成法が容易なスパッタリング法、及び工業的に展開できるMO-CVD法とし、これらの作成法で得られた酸化亜鉛薄膜に対して、結晶性、組成、電気・光学特性が明らかにされた。また、p型不純物であるリチウムを添加したMO-CVD法により、3.72x10^6(Ω・cm)の高い暗低抗率を有する酸化亜鉛薄膜が得られた。また、光導電率σpと暗導電率σpの比から求めた光感度は、3.71x10^2の値が得られ、光応答特性も非常に高速であった。 以上の結果から、酸化亜鉛薄膜材料は、高精細レーザープリンター用電子写真感光体へ応用できることが明らかとなった。
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