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プラズマ環境STMの開発とそのプラズマ材料表面プロセス原子スケール制御への応用

研究課題

研究課題/領域番号 09555215
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分展開研究
研究分野 材料加工・処理
研究機関東京大学

研究代表者

寺嶋 和夫  東京大学, 大学院・工学系研究科, 助教授 (30176911)

研究期間 (年度) 1997 – 1998
研究課題ステータス 完了 (1998年度)
配分額 *注記
9,600千円 (直接経費: 9,600千円)
1998年度: 2,900千円 (直接経費: 2,900千円)
1997年度: 6,700千円 (直接経費: 6,700千円)
キーワードプラズマ環境 / STM / プラズマ-固体界面 / プラズマ材料表面プロセス / エッチング / プラズマ表面 / 格子像 / プラズマ-個体界面 / プラズマ材料表面プロセシング
研究概要

本研究は、世界に先駆け、
(1) プラズマ環境中で作動する走査プローブ顕微鏡(STM;scanning tunneling microscope)開発
(2) そのラズマ材料表面プロセスの原子オーダー研究"への応用を目指したものであり、2年間の本研究の研究実績は以下の通りである。
(A) プラズマ環境中で作動する走査式トンネル顕微鏡/分光装置の開発
物性研究用のプラズマ環境中で安定的に作動する走査式トンネル顕微鏡/分光(プラズマSTM/STS)の開発を行った。440MHz高周波プラズマ発生装置とSTM系が真空チャンバー内に収められている。特に、STS測定モードを新たに付け加えるため、プラズマからのプラズマポテンシャル、電流ノイズ対策もかねた、耐高圧低ノイズ用計測回路への変更を行うとともに、プラズマによるピエゾ系への影響(経時変化)の低減を目指したピエゾパートの構造設計をおこなった。
(B) プラズマ-材料固体表面ナノスケールその場観察
上記のプラズマSTM/STSを用い、HOPGおよびSrTiO_3のプラズマエッチング過程の動的・静的ナノ構造解折/電子状態計測を行い装置動作の安定化を達成した。原子構造も得られた。

報告書

(3件)
  • 1998 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 1997 実績報告書
  • 研究成果

    (17件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (17件)

  • [文献書誌] K.Terashima: "Scanning tunneling microscopy operating under a plasma environment" Thin Solid Films. (印刷中). (1999)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Terashima: "High rate deposition of thick epitaxial films by thermal plasma flash deposition" Pure & Appl.Chemistry. 70・6. 1193-1197 (1998)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K. Terashima: "DEVEOPMENT OF A SCANNING MICROSCOPE OPERATIONAL UNDER A PLASMA ENVIRONMENT" Proc.J-C Bilatenl Sympo.on Adva.Materi.Eng.32-38 (1999)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Y.Takamura: "High RATE DEPOSITION OF YBCO FILMS BY HOT CLUSTER EPITAXY" J.Appl.Phys.84・9. 5084-5088 (1998)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] 服部伴之: "ホットクラスターエピタキシーによる高温超伝導体YBCO厚膜作製" 日本金属学会誌. 63・11. 68-73 (1999)

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      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] N.Yamaguchi: "Scanning tanneling microscopy of YB_<a2> Cu_3O_<τ-x> clustor deposited by plasma flash eraporation method" J.Mater.Sci.Lett.17. 2067-2069 (1998)

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      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Terashima et al.: "Scanning tunneling microscopy operating Under a plasma environment" Thin Solid Films. (in press). (1999)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Terashima et al.: "DEVELOPMENT OF A SCANNING TUNNELING MICROSCOPE OPERATIONAL UNDER A PLASMAENVIRONMENT" Proc.J-C Bila.Sympo.Adva.Mater.ENG.32-38 (1999)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T.Hattori et al.: "High-Tc YBCO Thick Film prepared by hot cluster Epitaxy" J.Met.Soc.Jpn.63. 68-73 (1999)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Terashima et al.: "High rate deposition of thick epitaxial films By plasma flash deposition" Pure & Appl.Chem.70. 1193-1197 (1998)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Y.Takamura et al.: "HIGH RATE DEPOSITION OF YBCO FILMSBY HOT CLUSTER DEPOSITION" J.Appl.Phys.84. 5084-5088 (1998)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] N.Yamaguchi et al.: "Scanning tunneling microscopy of YBCO cluster Deposited by plasma flash evaporation method" J.Mater.Sci.Lett.17. 2067-2069 (1998)

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Terashima: "Scanning tunneling microscopy operating under a plasma ehuironmene" Thin Solid Films. (印刷中). (1999)

    • 関連する報告書
      1998 実績報告書
  • [文献書誌] K.Terashima: "HIGH RATE DEPOSITION OF THICK EPITAXIAL FILMS BY THERMAL PLASMA FLASH DEPOSITION" Pure and Applied Chemistry. 70/6. 1193-1197 (1998)

    • 関連する報告書
      1998 実績報告書
  • [文献書誌] Y.Takamura: "High RATE DEPOSITION OF YBCO FILMS BY HOT CLUSTER EPITAXY" J.Appl.Phys.84/9. 5084-5088 (1998)

    • 関連する報告書
      1998 実績報告書
  • [文献書誌] 服部 伴之: "ホットクラスターエピタキシーによる高温超伝導体YBCO厚膜作製" 日本金属学会誌. 63/1. 68-73 (1999)

    • 関連する報告書
      1998 実績報告書
  • [文献書誌] Y.Takamura, K.Hayasaki, K.Terashima, T.Yoshida: "Claster size measurement using microtrench method in a thermal plasma flash evaporation process." J.Vac.Sci.Technol.B. Vol15,N3. 558-565 (1997)

    • 関連する報告書
      1997 実績報告書

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公開日: 1997-04-01   更新日: 2016-04-21  

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