• 研究課題をさがす
  • 研究者をさがす
  • KAKENの使い方
  1. 前のページに戻る

エキシマレーザを用いた新しい光造形システムの開発

研究課題

研究課題/領域番号 09555218
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分展開研究
研究分野 材料加工・処理
研究機関佐賀大学

研究代表者

佐藤 三郎  佐賀大学, 理工学部, 助教授 (80264141)

研究分担者 後藤 達美  株式会社ベルテクノ, R&Dセンター長
猪原 哲  佐賀大学, 理工学部, 助手 (90260728)
山部 長兵衛  佐賀大学, 理工学部, 教授 (30093082)
研究期間 (年度) 1997 – 1999
研究課題ステータス 完了 (1999年度)
配分額 *注記
11,900千円 (直接経費: 11,900千円)
1999年度: 2,600千円 (直接経費: 2,600千円)
1998年度: 6,000千円 (直接経費: 6,000千円)
1997年度: 3,300千円 (直接経費: 3,300千円)
キーワード光造形 / エキシマレーザ / 造形時間短縮 / ビームホモジナイザー / 紫外線硬化性樹脂 / 低価格な光造形装置 / XeClエキシマランプ / N2レーザ / 紫外線ファイバー / エキシマランプ / 硬化歪み / ビーム強度の均一化 / 光硬化 / 樹脂硬化量 / 3次元造形物
研究概要

本研究では,エキシマレーザ(波長308nmもしくは248nm)を用いて,これを紫外線光源として新しい方式の光造形技術を開発する。具体的には,従来の光造形では,連続発振のArイオンレーザ(351と364nm)やHe-Cdレーザ(325nm)等の1本の細いレーザビーム(直径約0.2mm)を光源として用い一筆書き描画を行っていたが,これをパルス発振であるが,大出力で太いレーザビーム(10mm×20mm)を用いる方式に改め,造形物の製作時間を飛躍的に短縮する。このため,大出力で太いレーザビームの有効活用技術やパルスレーザビームの新しい利用技術を研究開発する。さらに,安価な光造形装置を開発するための要素部品について検討する。
既設のエキシマレーザ装置にビームホモジナイザーやレンズ,ミラーで構成される均一ビーム照射光学系を試作して取りつけ,ビーム強度の均一化および効率的な利用方法について検討し,エキシマレーザによる光造形法が従来のレーザを利用する方法に比べ有利なことを確認した。さらに,コンピューター制御のZ軸テーブルを導入し,マスクで切り出されたレーザビームを光硬化樹脂上に照射することにより,3次元造形物の製作を実証した。
また,将来必要とされる安価な光造形装置を開発するため,XeClエキシマランプ(波長308nm)と紫外線用光ファイバー・対物レンズおよびX-Yプロッターを組み合わせた方式の光造形装置について、原理実証装置を試作し,造形試験を行った。さらに,同じエキシマランプにN2ガスを封入することにより,N2レーザの発振を試み,これを使った光造形の可能性について検討した。その結果,XeClエキシマランプによる光造形は,紫外線出力をファイバーに導光した場合,伝送効率が予想以上に悪く,紫外線硬化樹脂を硬化するまでに至らなかったが、N2レーザでは,十分な伝送出力が得られ,これを用いて簡単な光造形を行うことができた。

報告書

(4件)
  • 1999 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 1998 実績報告書
  • 1997 実績報告書
  • 研究成果

    (32件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (32件)

  • [文献書誌] 横川、佐藤、山部他: "エキシマレーザを用いた光造形の基礎的研究"佐賀大学理工学部集報. Vol.26. 55-57 (1997)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] 横川、佐藤、山部他: "エキシマレーザを用いたマスク方式光造形の検討"レーザー学会研究会報告 TM-97-46. 39-43 (1997)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] 佐藤、猪原、山部他: "XeClエキシマレーザを用いたマスク方式光造形の検討(IV)"平成10年春季第45回応用物理関連連合講演会 講演予稿28a-W-8. No.3. 1041 (1998)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] 佐藤、猪原、山部他: "XeClエキシマレーザ/ランプを用いた光造形装置の検討"第15回 ラピット・プロトタイピング シンポジウム 予稿集. 68-70 (1998)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] S.Satoh, C.Yamabe et al.: "A study on mask type Stereo-Lithography with XeCl Excimer Laser"the Review of Laser Engneering, Special Supplement for APLS '98. Vol. 26. 121-124 (1999)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] S.Satoh, C.Yamabe et al.: "Stereo-Lithography with XeCl excimer Laser/lamp"Proceedings of SPIE - High-Power Lasers in Manufacturing. Vol. 3888. 264-271 (1999)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] S.Satoh, C.Yamabe et al.: "Excimer Lamp Stereo-Lithpgraphy"Proceedings of SPIE - Laser Applications on Microelectronic and Optoelectronic Manufacturing V. Vol. 3933. 1-8 (2000)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] S.Satoh, C.Yamabe et al: "Stereo-Lithpgraphy with XeCl Excimer Lamp"Proceedings of 8th International conference on Rapid Prototyping. (in press). (2000)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Yokagawa, S.Satoh, C.Yamabe et al.: "Fundamental studies on stereo-lithography using excimer laser (in Japanese)"Reports of the Faculty of Science and Engineering Saga Univerisity. 26, No.1. 55-57 (1997)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Yokagawa, S.Satoh, C.Yamabe et al.: "A study on mask type stereo-lithography with XeCl excimer laser (in Japanese)"Reports on Topical Meeting of The Laser Society of Japan. No. RTM-97-46. 39-43 (1997)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] S.Satoh, S.Ihara, C.Yamabe et al.: "A study on mask type stereo-lithography with XeCl excimer laser (IV) (in Japanese)"Extended Abstracts (The 45th Spring Meeting, 1998) ; The Japan Society of Applied Physics and Related Societies. No. 28a-W-8. 1041 (1998)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] S.Satoh, S.Ihara, C.Yamabe et al.: "A study on mask type stereo-lithography with excimer laser and/or lamp (in Japanese)"15th Rapid Prototyping Symposium ; Japan Society of Die and Mold Technology. 68-70 (1998)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] S.Satoh, C.Yamabe et al.: "A study on Mask type Stereo-Lithography with XeCl Excimer Laser"The review of Laser Engineering, Special Supplement for APLS'98. 26. 121-124 (1999)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] S.Satoh, C.Yamabe et al.: "Stereo-Lithography with XeCl Excimer Laser/lamp"Proceedings of SPIE-High-Power Laser in Manufacturing. 3888. 264-271 (1999)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] S.Satoh, C.Yamabe et al.: "Excimer Lamp Stereo-Lithography"Proceedings of SPIE-Laser Applications on Microelectronic and Opto-electronic Manufacturing V. 3933. 1-8 (2000)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] S.Satoh, C.Yamabe et al.: "Stereo-Lithography with XeCl Excimer Lamp"Proceedings of the 8th International Conference on Rapid Prototyping. (in press). (2000)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1999 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] 佐藤三郎,山部長兵衛 他: "XeClエキシマランプを用いた光造形の検討"第46回応用物理関係連合講演会 講演予稿集. 30p-C-21. 1180 (1999)

    • 関連する報告書
      1999 実績報告書
  • [文献書誌] S.Satoh,C.Yamabe etal: "Stereo-Lithography with XeCl Excimer Laser/lamp"Proceedings of SPIE-High-Power Lasers in Manufacturing. Vol.3888. 264-271 (1999)

    • 関連する報告書
      1999 実績報告書
  • [文献書誌] S.Satoh,C.Yamabe etal: "Excimer Lamp Stereo-Lithography"Proceeding of SPIE-Laser Applications on Microelectronic and Optoelectronic Manufacturing V. Vol.3933. 1-8 (2000)

    • 関連する報告書
      1999 実績報告書
  • [文献書誌] 佐藤三郎,山部長兵衛 他: "XeClエキシマランプを用いた光造形の基礎研究"レーザー学会学術講演会第20回年次大会. 20pIV4. 112 (2000)

    • 関連する報告書
      1999 実績報告書
  • [文献書誌] 佐藤三郎,横川一男他: "XeClエキシマレーザを用いたマスク方式光造形の検討(IV)" 第45回応用物理関係連合講演会 講演予稿集. No.3. 1041 (1998)

    • 関連する報告書
      1998 実績報告書
  • [文献書誌] S.Satoh,K.Yokogawa etal: "A Study on Mask Type Stereo-Lithography with XeCl Exeimer laser" The Review of Laser Engineering Special Supplement for APLA'98. Vol.26. 121-124 (1998)

    • 関連する報告書
      1998 実績報告書
  • [文献書誌] 佐藤三郎,山部長兵衛他: "XeClエキシマレーザ/ランプを用いた光造形装置の検討" 第15回ラピット・プロトタイピングシンポジウム予稿集. 68-70 (1998)

    • 関連する報告書
      1998 実績報告書
  • [文献書誌] 佐藤三郎,山部長兵衛他: "XeClエキシマレーザ/ランプを用いた光造形装置の検討" レーザー学会学術講演会第19回年次大会. 29aVI2. 93 (1999)

    • 関連する報告書
      1998 実績報告書
  • [文献書誌] 佐藤 三郎 他4名: "エキシマレーザを用いた光造形の基礎的検討(VII)" 平成9年度電気関係学会九州支部連合大会 予稿 No.851. 401 (1997)

    • 関連する報告書
      1997 実績報告書
  • [文献書誌] 佐藤 三郎: "エキシマレーザを用いた光造形の研究" 産官学技術交流会 in北九州 予稿. 18 (1997)

    • 関連する報告書
      1997 実績報告書
  • [文献書誌] 横川 一男 他4名: "XeClエキシマレーザを用いたマスク方式光造形の検討" レーザー学会研究会報告 RTN-97-46. 39-43 (1997)

    • 関連する報告書
      1997 実績報告書
  • [文献書誌] 横川 一男 他4名: "エキシマレーザを用いた光造形の基礎的研究" 佐賀大学理工学部集報. 26(1). 55-57 (1997)

    • 関連する報告書
      1997 実績報告書
  • [文献書誌] 佐藤 三郎 他4名: "XeClエキシマレーザを用いたマスク方式光造形の検討" 第13回ラピット・プロトタイピングシンポジウム 予稿. 52-54 (1997)

    • 関連する報告書
      1997 実績報告書
  • [文献書誌] 横川 一男 他4名: "XeClエキシマレーザを用いたマスク方式光造形の検討" 応用物理学会九州支部大会 予稿 2Da-6. 178 (1997)

    • 関連する報告書
      1997 実績報告書
  • [文献書誌] 佐藤 三郎 他4名: "XeClエキシマレーザを用いたマスク方式光造形の検討" レーザー学会学術講演会第18回年次大会 予稿 23pIV10. 180 (1998)

    • 関連する報告書
      1997 実績報告書
  • [文献書誌] 佐藤 三郎 他4名: "XeClエキシマレーザを用いたマスク方式光造形の検討(IV)" 平成10年春季応用物理学関係連合講演会 予稿 28a-W8. (1998)

    • 関連する報告書
      1997 実績報告書

URL: 

公開日: 1997-04-01   更新日: 2016-04-21  

サービス概要 検索マニュアル よくある質問 お知らせ 利用規程 科研費による研究の帰属

Powered by NII kakenhi