| 研究課題/領域番号 |
09640408
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
固体物性Ⅰ(光物性・半導体・誘電体)
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| 研究機関 | 豊田工業大学 |
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研究代表者 |
生嶋 明 豊田工業大学, 工学研究科, 教授 (10029415)
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| 研究分担者 |
斉藤 和也 豊田工業大学, 工学研究科, 講師 (20278394)
藤原 巧 豊田工業大学, 工学研究科, 助教授 (10278393)
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| 研究期間 (年度) |
1997 – 1998
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| 研究課題ステータス |
完了 (1998年度)
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| 配分額 *注記 |
4,000千円 (直接経費: 4,000千円)
1998年度: 500千円 (直接経費: 500千円)
1997年度: 3,500千円 (直接経費: 3,500千円)
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| キーワード | ガラス転移 / シリカガラス / 構造緩和 / フォトニクス材料 / 光散乱 |
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| 研究概要 |
シリカガラスはフォトニクスの主要な材料であり、その緩和機構を解明することはシリカガラスの高機能化に必要である。また、単純なガラス構造をもつシリカガラスは、ガラス転移を研究するにも格好の舞台となる。本研究では、これまでシリカガラスのガラス転移点近傍の物性研究を妨げてきた高温(1000℃〜2000℃)での物性測定の困難を克服し、その構造緩和過程及びその不純物効果を明らかにした。具体的には、光散乱、FTIRおよび誘電緩和測定を用いて以下のことを明らかにした。
1. OHやClなどの不純物は、粘性流動に支配されたa緩和を促進する。さらにこれらの不純物により副緩和過程が生ずる
2. この副緩和は、不純物の拡散による局所的な構造緩和に起因する。
3. Alは、OHやClと異なり、a緩和を抑制する。
以上の結果を踏まえ、不純物を利用した緩和過程制御法を開発し、以下の高機能シリカガラスの開発を行った。
1. Na添加による超低損失光ファイバ用ガラス
2. Al添加による超耐熱ガラス
3. OH添加+紫外線照射+熱処理による耐紫外線ファイバ
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