| 研究課題/領域番号 |
09640440
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
固体物性Ⅱ(磁性・金属・低温)
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| 研究機関 | 九州工業大学 |
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研究代表者 |
出口 博之 九州工業大学, 工学部, 助教授 (30192206)
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| 研究分担者 |
高木 精志 九州工業大学, 工学部, 教授 (90112359)
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| 研究期間 (年度) |
1997 – 1998
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| 研究課題ステータス |
完了 (1998年度)
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| 配分額 *注記 |
3,000千円 (直接経費: 3,000千円)
1998年度: 500千円 (直接経費: 500千円)
1997年度: 2,500千円 (直接経費: 2,500千円)
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| キーワード | 希釈反強磁性体 / ランダム系 / グリフィス相 / 交流磁化率 / コール・コールプロット / 異常緩和 / 希釈磁性体 / スローダイナミクス |
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| 研究概要 |
Ni_xMg_<1-x>(OH)_2はNi^<2+>イオンがc面内に三角格子を形成し、面内強磁性、面間反強磁性作用を有する反強磁性体である。Ni^<2+>イオンを非磁性イオンMg^<2+>で置換した希釈磁性体が低温で興味ある磁性を示すので、磁化の履歴や緩和現象を実験的に調べ、グリフィス相の可能性を探った。グリフィス相はランダムな希釈磁性体における異常な常磁性相であり、近年スピングラスの常磁性相に類似の相が存在すると指摘され、注目されている。
いくつかのNi濃度の試料についてSQUID磁束計により、系統的な磁化測定および交流磁化率測定を行い、次のような結果を得た。(1)Ni濃度の広範囲の領域の試料でゼロ磁場冷却と磁場中冷却の磁化に反強磁性転移T_Nより高温側T_Gより不一致が生じる。(2)熱残留磁化が時間のベキ乗で現象する長時間緩和がT_Gより低温域でみられる。(3)交流磁化率の周波数依存を調べるためCole-Coleプロット解析を行った。まず、周波数依存で特徴的なこととして、T_N境にχ"の周波数依存が逆転しており、T_Nの上下で緩和現象が異なることが伺えた。解析により求まった緩和時定数、緩和時間の平均値の温度依存をイジング型スピングラスの結果と比較すると転移点以上の高温域の異常な緩和現象(スローダイナミクス)が定性的に一致していることがわかった。この共通性とRanderiaらの理論すなわちスピングラスのグラス転移点より高温域での異常緩和はグリフィス相の存在を示すという論拠から、この希釈磁性体の中間相がグリフィス相であることが明らかになった。
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