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新しいスパッタ堆積モードによる強誘電体(PZT)薄膜の低温形成とその機構解明

研究課題

研究課題/領域番号 09650349
研究種目

基盤研究(C)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 電子・電気材料工学
研究機関金沢大学

研究代表者

畑 朋延 (1998)  金沢大学, 工学部, 教授 (50019767)

佐々木 公洋 (1997)  金沢大学, 工学部, 助教授 (40162359)

研究分担者 畑 朋延  金沢大学, 工学部, 教授 (50019767)
研究期間 (年度) 1997 – 1998
研究課題ステータス 完了 (1998年度)
配分額 *注記
3,900千円 (直接経費: 3,900千円)
1998年度: 1,500千円 (直接経費: 1,500千円)
1997年度: 2,400千円 (直接経費: 2,400千円)
キーワードスパッタリング / PZT薄膜 / 金属モード / 酸化物モード / 同位体酸素 / ZrTr ターゲット / 金属一酸化物複合ターゲット / ZrTiターゲット / 金属-酸化物複合ターゲット / 金属・酸化物複合ターゲット
研究概要

同位体酸素(^<18>O_2)ガスを用いてPZT(Pb(Zr,Ti)O_3)薄膜を作製し,膜に含まれる酸素の質量をSIMSを用いて測定ることにより膜中酸素の起源を調べた.金属モードでPZT薄膜を作製すると,膜中酸素のうち90%はPbOからきた酸素であり,残り10%が流した酸素ガスからきたものであることが判明した.従って,この場合PbOが主要な酸素源ということになる.一方酸化物モードの場,合PbOから供給される酸素は30%であり,流した酸素ガスが主要な酸素源であることをはじめて明らかにした.
つぎに、PbのZr+Tiに対する比率の定量的検討を行ったところその比率が3以上のときペロブスカイト構造になりやすいことが判明した。この結果は、ちょうどPZTの化学量論比を満足するようにPbOから酸素が供給されたときペロブスカイト構造が生じたと理解される。Pbの蒸気圧が高く、単にそれを補うために過剰なPbOが必要なのではない。これは新しい着眼点であるといえる。
最後に本研究では、得られた結果を基に、準金属モードスパッタ堆積におけるターゲットの設計指針を与えいる。

報告書

(3件)
  • 1998 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 1997 実績報告書
  • 研究成果

    (19件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (19件)

  • [文献書誌] T.Hata et al.: "Proposal of new mixture target for PZT thin films by reactive sputtering" Vacuum. 51. 665-671 (1998)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Sasaki et al.: "Origin of oxygen in Pb(ZrTi)O_3 films Prepared by Metal Oxide Combined Target" Vacuum. 51. 661-664 (1998)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] 佐々木 他: "金属モードスパッタリングによるエピタキシャル高・強誘電体薄膜の作製" 電子情報通信学会技術研究報告. ED97-214. 17-22 (1998)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Sasaki et al.: "Origin of oxygen in PZT Films Prepared by Metal-Oxide Combined Target" Proc.of 4th International Symposium on Spattering and plasma process. 607-612 (1997)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T.Hata et al.: "Propose of New Target for PZT Thin Films by Reactive Spattering" Proc.of 4th International Symposium on Spattering and plasma process. 617-622 (1997)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T.Hata et al.: "Propse of New Mixture Target for Low Terperature and High Rate Deposition of PZT thin Films" Exterded Abstract of Solid State Devices and Materials. 36-37 (1997)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Je-Deok Kim, Kimihiro Sasaki and Tomonobu Hata: "Preparation and Properties of Pb (Zr, Ti) O3 Thin Films on Ir Electrode Using a Apparatus" Proc.of 5th International Symposium on Sputtering and Plasma Process. (to be published, 1999).

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Sasaki, W.X.Zhang and T.Hata: "Origin of oxygen in Pb (Zr, Ti) O_3 films prepared by metal-oxide combined target" Vacuum. Vol.51/4. 661-664 (1998)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T.Hata, S.Kawagoe, W.Zhang, K.Sasaki, Y.Yoshioka: "Proposal of new mixture target for PZT thin films by reactive sputtering" Vacuum. Vol.51/4. 665-671 (1998)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T.Hata, W.Zhang, S.Kawagoe and K.Sasaki: "Propose of New Mixture Target for Low Temperature and High Rate Deposition of PZT Thin Films by Reactive Sputtering" Ext.Abs.of SSDM'97. 36-37 (1997)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T.Hata W.Zhang and K.Sasaki: "Propose of New Target for PZT Thin Films by Reactive Sputtering" Proc.of 4th ISSP. 617-622 (1997)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] K.Sasaki, W.Zhang, S.Kawagoe and T.Hata: "Origin of Oxygen in PZT Films Prepared by Metal-Oxide Combined Target" Proc.of 4th ISSP. 607-612 (1997)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      1998 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] T.Hata et al.: "Proposal of new mixture target for PZT thin films by reactive sputtering" Vacuum. 51[4]. 665-671 (1998)

    • 関連する報告書
      1998 実績報告書
  • [文献書誌] K.Sasaki et al.: "Origin of oxygen in Pb(Zr,Ti)O_3 films prepaved by metal-oxide combined target" Vacuum. 51[4]. 661-664 (1998)

    • 関連する報告書
      1998 実績報告書
  • [文献書誌] 佐々木他: "金属モードスパッタリングによるエピタキシャル高・強誘電体薄膜の作製" 電子情報通信学会技術研究報告. ED97-214. 17-22 (1998)

    • 関連する報告書
      1998 実績報告書
  • [文献書誌] K.Sasaki, W.Zhang, S.Kawagoe T.Hata: ""Origin of Oxigen in PZT Films Prepared by Metal-Oxide Combined Target" Proc.of 4th International Symposium on Sputtering and plasma process. 607-612 (1997)

    • 関連する報告書
      1997 実績報告書
  • [文献書誌] T.Hata, W.Zhang and K.Sasaki: "Propose of New Target for PZT Thinfilms by Reactive Sputtering" Proc.of 4th International Symposium on Sputtering and plasma process. 617-622 (1997)

    • 関連する報告書
      1997 実績報告書
  • [文献書誌] T.Hata, W.Zhang.S.Kawagoe K.Sasaki: "Propose of New Mixture Target for Low Temperature and High Rate Deposition of PZT Thin Films" Ext.Abs.of Solid State Devices and Materials. 36-37 (1997)

    • 関連する報告書
      1997 実績報告書
  • [文献書誌] K.Sasaki W.Zhang ant T.Hata: "Origin of oxygen in Pb(Zr,Tr)O_3 films prepared by metal-oxide combined target." Vacuum. (to be published). (1998)

    • 関連する報告書
      1997 実績報告書

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公開日: 1997-04-01   更新日: 2016-04-21  

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