| 研究課題/領域番号 |
09650838
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| 研究種目 |
基盤研究(C)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
反応・分離工学
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| 研究機関 | 岩手大学 |
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研究代表者 |
清水 健司 岩手大学, 工学部・応用分子化学科, 教授 (10003881)
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| 研究期間 (年度) |
1997 – 1998
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| 研究課題ステータス |
完了 (1998年度)
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| 配分額 *注記 |
1,100千円 (直接経費: 1,100千円)
1998年度: 1,100千円 (直接経費: 1,100千円)
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| キーワード | 結晶化 / 結晶成長ユニット / 結晶核発生 / 微小重力 / その場測定 / 光センサ / 結晶粒度分布 / 溶液構造 / 結晶成長 / 結晶系面近傍 / 微結晶挙動 / 結晶成長制御 / その場観察 / 反応晶析 |
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| 研究概要 |
工業晶析において、結晶の厳密な粒度、純度の制御が重要な課題であり多くの研究がなされている。しがしながら、結晶の発生や成長現象に関しては充分理解されていない。そこで、本研究では、地上実験に加えて、微小重力場を利用して、結晶の発生や成長の様子、発生後の微結晶の挙動を動的光散乱計測システムおよび光学顕微鏡によるその場観察法で調べた。微小重力場では、過飽和溶液中の種晶から発生した結晶核の挙動停止、非合体、および、他領域からの新たな結晶核の発生がなかったこと、また併せて、動的光散乱計測システムで、発生結晶の数、粒径の経時変化に関するナノオーダからのデータが取得できることを確認した。
また、結晶成長ユニットに関する知見を得るために、成長結晶の近傍の溶液構造、濃度分布、および不純物あるいは微結晶共存などの溶液環境場を干渉顕微鏡、NMRおよびESCAで測定した。その結果、界面近傍の濃度勾配およびその領域が、過飽和度、結晶面および添加物イオン濃度で左右されること、過飽和溶液中において分子集合体や錯イオンも形成され結晶形状の形成に関与していることを推察した。
さらに、以上の結果を製品結晶粒度の制御に適用することを試みた。工夫し製作した光センサによる粒子濃度のその場測定を利用して、自動粒子分散制御システムを構築し、製品結晶の粒径制御について検討し、本システムが有効であることを確認した。
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