低温高活性型水素化分解触媒の開発

• 研究課題/領域番号: 09650855
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 触媒・化学プロセス
• 研究機関: 東京大学
• 研究代表者: 中村 育世 東大, 工学(系)研究科, 講師 (30251367)
• 研究期間 (年度): 1997
• 研究課題ステータス: 完了 (1997年度)
• 配分額: 2,100千円 (直接経費: 2,100千円); 1997年度: 2,100千円 (直接経費: 2,100千円)