研究課題/領域番号 |
09672162
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研究種目 |
基盤研究(C)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
化学系薬学
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研究機関 | 東京薬科大学 |
研究代表者 |
渋谷 皓 東京薬科大学, 薬学部, 教授 (10057325)
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研究期間 (年度) |
1997 – 1998
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研究課題ステータス |
完了 (1998年度)
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配分額 *注記 |
3,100千円 (直接経費: 3,100千円)
1998年度: 700千円 (直接経費: 700千円)
1997年度: 2,400千円 (直接経費: 2,400千円)
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キーワード | 立体選択的合成 / 不斉ジヒドロキ化反応 / ホスホチロシン / リパーゼ / プリンヌクレオシドホスホリラーゼ / 2-デオキシリボース-3-ホスホン酸 / グリコシル化反応 / ラジカル環化反応 / α-ヘテロ原子置換ホスホン酸 / α,β-不飽和ホスホン酸 / グルコシル化反応 / リパ-ゼ / 2-デオキシリボ-ズ-3-ホスホン酸 / 不斉ジヒドロキシル化反応 / α,α-ジフルオロホスホン酸 / ホスホン酸 |
研究概要 |
1. ポリヒドロキシホスホネートの不斉合成:種々の1(E)-アルケニルホスホネートのAD-mix試薬による不斉ジヒドロキシ化反応によりスレオα,β-ジヒドロキシホスホネートを得た。芳香環と共役したアルケニルホスホネートの場合には高いエナンチオ選択性を示した。1位に酸素官能基を有する2(E)-アルケニルホスホネートのAD-mix試薬による不斉ジヒドロキシ化反応の速度論的不斉ジヒドロキシ化反応を応用しポリヒドロキシホスホネートの新しい不斉合成法を確立した。 2. リン酸化チロシンの安定類縁体の不斉合成:p位にCH_2PO(OEt)_2あるいはCF_2PO(OEt)_2を有する2-ベンジル-1,3-プロパンジオールおよび相当するジアセテートのリパーゼ触媒下の不斉アシル化反応あるいは不斉加水分解反応により高エナンチオ選択性で得たモノアセテート体からホスホノメチレンフェニルアラニン(Pmp)、ジフルオロホスホノメチレンフエニルアラニン(F_2Pmp)および相当するβ-アミノ酸に誘導した 3. プリンヌクレオチドホスホリラーゼ(PNP)阻害剤の合成:グアニンおよびヒポキサンチンと無機リン酸のミミック部分を二重結合あるいはトランスシクロプロパン環で配座固定したアルキルスペーサーで連結したヌクレオチドアナログ合成した。二重結合の幾何異性体間ではPNP阻害活性に有意の活性は認められなかった。トランスシクロプロパン環で配座固定した誘導体ではPNP阻害活性は上昇した。シクロプロピルメチルカルビノール誘導体から得られたヒポキサンチン誘導体はヒポキサンチン部の配座自由度が制限されることにより、PNP阻害能(IC_<50>)が向上することが明らかとなった。 4. リン酸部修飾ヌクレオチドアナログの合成:鍵反応としてラジカル環化反応を応用してデオキシリボース-3-リン酸のメチレンホスホナートアナログおよびホスホノチオエートを高ジアステレオ選択的に合成法した。分子内および分子間N-グリコシル化反応を検討し高いβ-選択的N-グリコシル化反応を確立した。さらに、β-選択的C-グリコシル化反応に応用した。
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