ゼータ電位による補綴材料への口腔内細菌の吸着性と吸着防止効果の評価

• 研究課題/領域番号: 09771717
• 研究種目: 奨励研究(A)
• 配分区分: 補助金
• 研究分野: 補綴理工系歯学
• 研究機関: 東京歯科大学
• 研究代表者: 中村 菜穂子 東京歯大, 歯学部, 助手 (40276978)
• 研究期間 (年度): 1997
• 研究課題ステータス: 完了 (1997年度)
• 配分額: 1,200千円 (直接経費: 1,200千円); 1997年度: 1,200千円 (直接経費: 1,200千円)