研究課題/領域番号 |
09875225
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研究種目 |
萌芽的研究
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配分区分 | 補助金 |
研究分野 |
合成化学
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研究機関 | 東京農工大学 |
研究代表者 |
小宮 三四郎 東京農工大学, 工学部, 教授 (00111667)
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研究期間 (年度) |
1997
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研究課題ステータス |
完了 (1997年度)
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配分額 *注記 |
2,000千円 (直接経費: 2,000千円)
1997年度: 2,000千円 (直接経費: 2,000千円)
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キーワード | 隣接フェイシャル反応場 / 三座ホスフィン配位子 / レニウム錯体 |
研究概要 |
隣接フェイシャル反応場をレニウム上に構築するために、labileな配位子の1つであると考えられるエチレンを持つ三座配位ホスフィンレニウム錯体の合成を行った。 既知の錯体であるReCl_3(etp)[etp=PhP(C_2H_4PPh_2)_2]をエチルリチウムで還元することによりビスエチレンヒドリドレニウム錯体mer-ReH(C_2H_4)_2(etp)を収率75%で得た。この錯体のX線結晶構造解析によりその分子構造を解明した。この錯体は10atmの一酸化炭素との反応により1つのエチレンが脱離し、etp配位子によって構成されるエクアトリアル平面に一酸化炭素が1分子配位したmer-ReH(C_2H_4)(CO)_2(etp)を与えた。この錯体の構造分子はX線結晶構造解析により解明した。また、mer-ReH(C_2H_4)_2(etp)に過剰量のジメチルフェニルホスフィンを加えたところ、興味深いことに三座配位子がフェイシャルに配位した錯体fac-ReH(C_2H_4)(PMe_2Ph)(etp)を与えた。この錯体はmer-ReCl_3(PMe_2Ph)_3とETPの反応によって得られた常磁性錯体ReCl_3(PMe_2Ph)(etp)をエチルリチウムによって還元することによっても合成された。
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