| 研究課題/領域番号 |
10044051
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
機能・物性・材料
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| 研究機関 | 北海道大学 |
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研究代表者 |
下村 政嗣 北海道大学, 電子科学研究所, 教授 (10136525)
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| 研究分担者 |
西川 雄大 北海道大学, 電子科学研究所, 助手 (40281836)
OLAF Karthau (KARTHAUS Olaf) 北海道大学, 電子科学研究所, 助手 (80261353)
居城 邦治 北海道大学, 電子科学研究所, 助教授 (90221762)
OFFENHAUSSER アンドレアス Max Planck研究所, 助手
KNOLL Wolfga Max Planck研究所, 教授
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| 研究期間 (年度) |
1998 – 1999
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| 研究課題ステータス |
完了 (1999年度)
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| 配分額 *注記 |
4,400千円 (直接経費: 4,400千円)
1999年度: 2,200千円 (直接経費: 2,200千円)
1998年度: 2,200千円 (直接経費: 2,200千円)
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| キーワード | 高分子コンプレックス / 散逸構造 / 表面プラズモン共鳴 / ハニカム構造 / ミクロパターン / 分子認識 / 自己組織化 / SAM / キャストフィルム / 細胞培養 / 階層構造 / 糖鎖高分子 / 階層的構造化 / メゾスコピックパターン / 高分子 / ナノ構造 / 走査プローブ顕微鏡 |
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| 研究概要 |
本研究は、表面プラズモン顕微鏡や走査プローブ顕微鏡を用いた高分子コンプレックスの構造評価に精通した物理学者と、有機合成ならびに分子薄膜の作製を行っている高分子化学者が有機的な連携をとりながら、二分子膜や単分子膜、LB膜のような二次元秩序を有する分子薄膜をマトリックスとして、合成ならびに生体高分子を複合化したナノメーターサイズの高分子コンプレックスを作製し、マイクロメータレベルにいたる幅広い階層にまたがる構造化を行おうとするものである。
本研究では、ナノメーターサイズの高分子コンプレックスとして核酸塩基を有する自己会合単分子膜(SAM)ならびに単分子膜、マイクロメーターサイズの高分子構造体としてハニカム状にパターン化された高分子フィルムを作製し、主として表面プラズモン共鳴法を用いた解析を行うことで、それぞれの構造特性を明らかにした。その結果、相補的な塩基対を形成するSAMとゲスト核酸塩基の組み合わせでプラズモン共鳴の変化が観測された。また、パターン化高分子薄膜の2次元トポグラフィーをプラズモン共鳴のコントラスト像として観察することができた。
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