| 研究課題/領域番号 |
10208204
|
|---|
| 研究種目 |
特定領域研究(B)
|
| 配分区分 | 補助金 |
|---|
| 研究機関 | 東京工業大学 |
|---|
研究代表者 |
三上 幸一 東京工業大学, 大学院・理工学研究科, 助教授 (10157448)
|
|---|
| 研究分担者 |
寺田 眞浩 東京工業大学, 工学部, 助手 (50217428)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
1998 – 2000
|
| 研究課題ステータス |
完了 (2000年度)
|
| 配分額 *注記 |
10,900千円 (直接経費: 10,900千円)
2000年度: 3,600千円 (直接経費: 3,600千円)
1999年度: 3,600千円 (直接経費: 3,600千円)
1998年度: 3,700千円 (直接経費: 3,700千円)
|
|---|
| キーワード | 不斉活性化 / 動的立体化学制御 / 異種金属 / ヘテロキラル / ホモキラル / 不斉触媒 / 触媒 / 金属錯体 / 活性化 / 配位子 |
|---|
| 研究概要 |
現代の有機合成化学の最重要課題は立体化学の制御を含めた反応の選択性の追及にある。高選択的な立体化学制御のためには、触媒反応の設計とその動的な制御が不可欠である。本研究では、(1)新しいコンセプトに基づく触媒系の創製、(2)触媒と基質との相互作用の動的挙動の解明、および(3)外部分子による制御を研究テーマとして新しい動的立体化学制御法の確立を目的とする。この際、反応の動力学や立体化学などの実験に基づいて動的立体化学の考察を行うとともに、計算化学による遷移状態の解析も検討した。
金属錯体触媒がホモメタリックなコンプレックスを優先的に形成するのか、ヘテロメタリックなコンプレックスを形成するのか、さらには可逆的な錯体形成するのか非可逆的な錯体形成をするのか。最後に基質が反応する際に、ホモ対ヘテロメタリックな2種の金属錯体触媒の示す相対速度も問題となる。従って、コンプレックス形成の平衡定数(K)、基質との相互作用の速度k_R,k_Sと逆反応速度k_R,k_S、さらにはそれぞれの基質/錯体触媒による基質の反応速度k_<R,R>,k_<S,R>(異種錯体触媒間のキラリティーの組み合わせを示す)によって選択性が決定される。本年度は、こうした動的立体化学制御の連続的変化を数値解析した。
|
