研究課題/領域番号 |
10450080
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研究種目 |
基盤研究(B)
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配分区分 | 補助金 |
応募区分 | 一般 |
研究分野 |
熱工学
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研究機関 | 東京大学 |
研究代表者 |
西尾 茂文 東京大学, 生産技術研究所, 教授 (00111568)
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研究分担者 |
白樫 了 東京大学, 生産技術研究所, 助教授 (80292754)
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研究期間 (年度) |
1998 – 2000
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研究課題ステータス |
完了 (2000年度)
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配分額 *注記 |
16,200千円 (直接経費: 16,200千円)
2000年度: 2,200千円 (直接経費: 2,200千円)
1999年度: 3,800千円 (直接経費: 3,800千円)
1998年度: 10,200千円 (直接経費: 10,200千円)
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キーワード | 熱工学 / 熱伝達 / 相変化 / 接触界線 / 蒸発 / 沸騰 / 限界熱流束 / マイクログルーブ |
研究概要 |
本研究は、気泡構造と接触界線長さ密度(CLD)との関連がつかみやすい「擬似二次元沸騰系(以下、沸騰系)」と接触界線領域の蒸発現象の顕在化が期待できる「マイクログルーブ系(以下、グルーブ系)」とに関する研究を両輪として、高熱流束沸騰における相変化機構の解明を目的としている。 得られた主な結果は、以下のとおりである。 (1)マイクログルーブ系におけるドライアウト熱流束は、あるグルーブ寸法(幅)で最大値を取り、その値は同じ液体のプール沸騰の限界熱流束(CHF)に近い。 (2)微小重力場における気泡離脱周期(BDP)はリブ付き沸騰面を用いることにより顕著に短くなる。CHFとBDPとの積はほぼ一定であり、したがって微小重力場においてBDPを短縮するとCHFが増大する。 (3)CLDの過熱度依存性は沸騰曲線と極めて類似している。飽和沸騰CHFにおけるCLDおよび乾燥面数密度はともに液体種類によらない一定値を取る。特に、大乾燥面領域の数密度は、サブクール度にも依存しない。 (4)高熱流束沸騰における固液接触は水路状の液体ネットワーク形状を取る。気泡底部はおおよそ乾燥しており、固液接触は気泡間に局在される。これが、水路状の液体ネットワーク形状を引き起こす原因である。
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