| 研究課題/領域番号 |
10450195
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
土木環境システム
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
大垣 眞一郎 東京大学, 大学院・工学系研究科, 教授 (20005549)
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| 研究分担者 |
大瀧 雅寛 (大瀧 雅實) お茶の水女子大学, 人間文化研究科, 助教授 (70272367)
長岡 裕 武蔵工業大学, 工学部, 助教授 (90207986)
古米 弘明 東京大学, 大学院・工学系研究科, 教授 (40173546)
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| 研究期間 (年度) |
1998 – 1999
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| 研究課題ステータス |
完了 (1999年度)
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| 配分額 *注記 |
6,500千円 (直接経費: 6,500千円)
1999年度: 3,100千円 (直接経費: 3,100千円)
1998年度: 3,400千円 (直接経費: 3,400千円)
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| キーワード | 高度酸化処理 / 紫外線照射消毒 / 光触媒処理 / 自然由来有機物 / 反応速度 / 生物再増殖能 / フローサイトメトリー / 紫外線照射処理 / 自然由来有機物質 / 中圧紫外線ランプ照射処理 / 紫外吸光度 / THM生成能 |
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| 研究概要 |
高度酸化処理の一つとして、光触媒を用いた水処理に関する検討を行なった。触媒として二酸化チタンをガラス上に薄膜状にコーティングして用いた。光源としては、太陽光の低波長域の分布に似ているブラックライトおよび低圧水銀ランプを用いた。様々な条件下での光触媒によるフェノールおよびメチレンブルーの分解速度を測定し、流動条件、光強度、触媒面積比などの各条件が反応速度に与える影響を定量的に評価した。反応速度はラングミュアー・ヒンシェルウッド型の式に従い、上記の影響因子が式のパラメーターに与える影響を特定した。また、pHおよび光触媒の種類による反応速度を調べ、基質と触媒表面の帯電状態による違いから実験結果を説明することができた。
高度酸化処理した場合の自然由来有機物物質(NOM)の評価手法として、GC/MSを用いた未知有機物質の測定および細菌再増殖ポテンシャルの測定法の改良を試みている。細菌再増殖ポテンシャルの従来の手法では、全菌数を求めるアクリジンオレンジ法で細菌増殖料を得ているが、フローサイトメトリーによる菌数の計測を試みた。前処理として超音波処理が必要であるが、従来法と同程度の測定値を短時間で得ることに成功した。
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