| 研究課題/領域番号 |
10450317
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
工業分析化学
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| 研究機関 | 東京大学 |
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研究代表者 |
二瓶 好正 東京大学, 生産技術研究所, 教授 (10011016)
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| 研究分担者 |
石井 秀司 東京大学, 生産技術研究所, 助手 (30251466)
尾張 真則 (尾張 直則) 東京大学, 環境研究安全センター, 教授 (70160950)
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| 研究期間 (年度) |
1998 – 1999
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| 研究課題ステータス |
完了 (1999年度)
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| 配分額 *注記 |
12,200千円 (直接経費: 12,200千円)
1999年度: 4,100千円 (直接経費: 4,100千円)
1998年度: 8,100千円 (直接経費: 8,100千円)
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| キーワード | X線光電子回折 / XPED時間分解測定 / 表面変性エピタキシー / 表面合金化プロセス / tensor XPED / Cu / Ge(111)系 / 光電子ホログラフィー / Gu |
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| 研究概要 |
X線光電子回折(XPED)法により、表面化学反応・成長プロセス前後の原子構造の変化を精密に決定し、さらにその途中の動的過程をXPEDの時間分解測定によってリアルタイムで解析する実験的方法の確立が目的である。XPED法の元素識別性を利用し、表面変性エピタキシーや表面合金化など、最表面原子だけでなくナノメーターオーダーの深さまでの原子が関与するためにSTMなどでは完全には解析できない系を測定・解析することを目指して、以下の研究を行った。
1.温度可変XPED-MBE装置の立ち上げ
初年度は精密かつ時間分解測定のために試料精密回転・温度可変マニピュレーターを改良した。次年度はこれらを実効的に使用するためにトランスファーロッドなどを組み込み、液体窒素温度から1000℃までの温度範囲のMBE作製-XPED測定が可能な装置の作製を行った。この装置の予備テストを行ったが、残念ながら時間的理由により実試料での温度変化測定までは至らなかった。
2.光電子ホログラフィー理論の精密化
温度変化による表面プロセス解析法として、得られたXPEDパターンを有効に解析するために新原理に基づく差分光電子ホログラフィーやtensor XPEDの手法を提案し、この手法の基礎的検討を実際の系を仮定して行った。
3.表面合金化プロセスの検討
Ge(111)上にCuを吸着させた不整合構造をつくり、Cu原子の構造を調べた。加熱により形成したCuとGeと合金相についてRHEED、XPEDでの測定および詳細な解析を行った。リアルタイム測定は時間的な理由から達成できなかったが、上記新手法と併せてこれらの系での解析手法を確立した。
4.XPED測定の高速化の検討
従来の測定をより高速化するために、2次元同時検出による測定の高速化の理論的・実験的研究や、新しいタイプの電子レンズに対する理論的検討を行い、リアルタイム測定への装置的検討を行った。
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