| 研究課題/領域番号 |
10555104
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 展開研究 |
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| 研究分野 |
電子・電気材料工学
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| 研究機関 | 名古屋大学 |
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研究代表者 |
森 竜雄 名古屋大学, 工学研究科, 講師 (40230073)
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| 研究分担者 |
山下 浩一 新日鉄化学, 電子材料開発センター, 研究員
水谷 照吉 名古屋大学, 工学研究科, 教授 (70023249)
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| 研究期間 (年度) |
1998 – 1999
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| 研究課題ステータス |
完了 (1999年度)
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| 配分額 *注記 |
1,000千円 (直接経費: 1,000千円)
1999年度: 1,000千円 (直接経費: 1,000千円)
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| キーワード | 気相成長高分子 / 層間絶縁 / 多層構造 / フルカラー / 有機EL / 気相成長法 / 層間絶縁膜 |
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| 研究概要 |
本研究では有機EL素子への気相成長高分子を利用した保護膜の効果と層間絶縁膜として利用したフルカラー構成素子の作成を目指した。気相成長高分子としてポリパラキシレン系材料が知られている。ポリパラキシレン(PPX)は熱CVD法により作成でき、無触媒で重合できる材料である。PPXの誘導体として、ポリパラキシレンのフェニレン基の水素を塩素に一置換したポリクロロパラキシレン(PCPX)、二置換したポリジクロロパラキシレン(PDPX)が比較的容易に入手できる。本研究では耐熱性に優れるPPXと低透過率のPCPXの二つを用いて研究を行った。
本年度は熱CVD膜の保護膜としての有用性を確認した。またスパツタ法を利用した透明電極を作成するプロセスが素子に影響を与えないことを確認した。多層積層型三色発光素子を作成し、その発光現象を確認した。この成果は新しいフルカラーデバイスの形成法として本手法が利用できることを示唆する。.
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