| 研究課題/領域番号 |
10555247
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(B)
|
| 配分区分 | 補助金 |
|---|
| 応募区分 | 展開研究 |
|---|
| 研究分野 |
材料加工・処理
|
|---|
| 研究機関 | 名古屋大学 |
|---|
研究代表者 |
杉村 博之 名古屋大学, 工学研究科, 助教授 (10293656)
|
|---|
| 研究分担者 |
中桐 伸行 株式会社, ニコン, 主幹研究員
井上 泰志 名古屋大学, 工学研究科, 助手 (10252264)
高井 治 名古屋大学, 工学研究科, 教授 (40110712)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
1998 – 1999
|
| 研究課題ステータス |
完了 (1999年度)
|
| 配分額 *注記 |
10,900千円 (直接経費: 10,900千円)
1999年度: 4,900千円 (直接経費: 4,900千円)
1998年度: 6,000千円 (直接経費: 6,000千円)
|
|---|
| キーワード | 有機薄膜 / 自己組織化単分子膜 / 有機シラン / 光洗浄 / 微細加工 / リソグラフィ / レジスト / 原子間力顕微鏡 |
|---|
| 研究概要 |
基板洗浄、超薄膜レジスト作製、パターニング、転写プロセスの各工程での実験緒果を、総合的な視野から有機的に連携させ、有機シラン系超薄膜製膜技術と原子間力顕微鏡を用いた実用性の高いナノリソグラフィ技術を開発した。
(1)気相法による単分子被覆プロセスの開発
気相法を用いることによって、大面積基板への被覆均一性に優れ、溶媒を全く用いないという省資源的長所をも兼ね備えた、レジスト膜被覆プロセスを開発した。紫外光-酸素ラジカルによる光洗浄技術を開発し、洗浄ムラおよび溶液からの基板の再汚染が無い高速洗浄を可能とした。次に、各種有機シラン分子を原料に用い、気相法により、膜厚を0.2〜2.0nmの範囲で正確に制御できる構造的な欠陥ない単分子膜被覆を達成した。
(2)有機シラン単分子膜のエッチング耐久性評価
気相被覆した自已組織化有機シラン単分子膜の化学的耐久性を評価した。。フッ酸による湿式エッチングおよびフッ素系プラズマによるドライエッチングに対する化学的耐久僅が高く、酸化シリコンおよびシリコンのエッチングマスクとして十分使用にたえることがわかった。
(3)AFMリソグラフィによるナノ構造形成
導電性のAFMプローブの先端からレジスト(ODS膜)に電流を注入し、プローブ-サンプル接合点での局所的な電気化学反応を誘起することによって、ODS単分子膜を変成・分解してパターン描画する、AFMナノリソグラフィ技術を開発した。この技術によって、線幅50nm以下のシリコンナノパターンを作製できることを実証した。さらに、絶縁体の微細加工にも適用可能な、新しい導電性レジストおよびその現像プロセス技術を開発した。開発したレジスト膜は、膜厚20nmの非晶質シリコン膜をべ一スにしており、シリコン-酸化膜-ODSの3層構造となっている。シリコン層は非晶質膜にすることによって、粒界によるパターンの揺らぎを最小限に押さえた。
|
