| 研究課題/領域番号 |
10555324
|
|---|
| 研究種目 |
基盤研究(B)
|
| 配分区分 | 補助金 |
|---|
| 応募区分 | 展開研究 |
|---|
| 研究分野 |
高分子合成
|
|---|
| 研究機関 | 東京工業大学 |
|---|
研究代表者 |
鯉沼 秀臣 東京工業大学, 応用セラミックス研究所, 教授 (70011187)
|
|---|
| 研究分担者 |
吉田 泰彦 (吉田 康彦) 東洋大学, 工学部, 教授 (80134500)
加藤 信子 株式会社ブリジストン, 研究開発本部・研究部・1部, ユニットリーダー(研究職)
|
|---|
| 研究期間 (年度) |
1998 – 1999
|
| 研究課題ステータス |
完了 (1999年度)
|
| 配分額 *注記 |
4,400千円 (直接経費: 4,400千円)
1999年度: 4,400千円 (直接経費: 4,400千円)
|
|---|
| キーワード | 大気圧プラズマ / コンビナトリアルプラズマプロセス / プラズマ表面処理 / プラズマ重合 / プラズマC0_22固定 / プラズマCO_2固定 |
|---|
| 研究概要 |
1.大気圧低温シャワー型プラズマ発生装置の改良
高分子フィルキを両サイドに設置したローラーでアノードに接しながらステッピングモーターにより巻き取りつつプラズマ処理を行う過程で、フィルムの送りに同期してRF(13.56MH_z)パワー、反応ガスの種類や流量などのプラズマパラメーターをコンピューター制御するコンビナトリアル処理機構を開発した。また、アルミニウム製のカソードの形状を従来の円形から四角形としたことで、均一な処理が可能となった。電源についても、プラズマのさらなる低温化と反応増進・制御を目的として、RFパワーを短時間にオン・オラするパルス機能を導入した。パルスの効果でプラズマガス温度がさらに低くなることが確認され、熱の影響を受けやすい高分フィルムに対してもダメージを与えることなく、より安定にプラズマ処理を行えるようになった。プラズマはガス温度が80℃程度の超低温(ソフト)プラズマである。
2.大気圧低温プラズマを用いたプラズマ重合薄膜中へのC0_2固定
上記シャワー型装置で発生するソフトプラズマを大気中に放出させ、二酸化炭素と有機化合物とのプラズマ反応によるC0_2固定有機薄膜の作製を試みた。有機化合物はメタン、プタジエン、ベンゼン、キシレン、スチレンを用いた。ガスはHeガスにモノマーガスおよび、C0_2はガスを混合し装置に導入した。実験の結果、すべての有機モノマーから薄膜が形成された。また、C0_2ガスを添付した薄膜のには1330cm^<-1>付近に明確なカルボニル基の吸収を示し、C0_2はエステルまたはカルボン酸として取り込まれていることが確認できた。連続プラズマではCO_2の完全な分解が進行するのに大使、パルス化によりC=0が保存されたCO_2固定を実現した。
|
