| 研究課題/領域番号 |
10558095
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 展開研究 |
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| 研究分野 |
環境保全
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| 研究機関 | 慶應義塾大学 |
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研究代表者 |
田中 茂 慶応義塾大学, 理工学部, 教授 (10137987)
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| 研究分担者 |
米津 晋 三機工業(株), 開発本部・技術研究所, 研究主任
藤井 雅則 三機工業(株), 開発本部・技術研究所, 主任研究員
成田 祥 慶応義塾大学, 理工学部, 助手 (60317295)
大歳 恒彦 日本環境衛生センター, 主任研究員
駒崎 雄一 慶應義塾大学, 理工学部, 助手 (80286640)
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| 研究期間 (年度) |
1998 – 1999
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| 研究課題ステータス |
完了 (1999年度)
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| 配分額 *注記 |
12,500千円 (直接経費: 12,500千円)
1999年度: 4,800千円 (直接経費: 4,800千円)
1998年度: 7,700千円 (直接経費: 7,700千円)
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| キーワード | 拡散スクラバー法 / 除去・処理装置 / 室内空気汚染 / 有害ガス成分 / 多孔質テフロン膜 / ホルムアルデヒド / アンモニア / 多孔質テフロンチューブ |
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| 研究概要 |
人間活動を通じて膨大な種類の有害化学物質が生み出される現代において、有害化学物質を効率よく除去・処理し、『快適環境を創造する』技術の開発は大きな研究課題である。特に(1)発癌性物質であるシックビルディング症候群の原因となってきたホルムアルデヒドによる室内汚染、(2)地球環境問題となる船舶、航空機からのSO_2、NO_X等の排出、(3)生ゴミ処理・トイレでの悪臭(NH_3、アミン類)、(4)半導体製造の生産性にも影響するクリーンルーム等の作業環境での微量ガス(HF,HC1,HNO_3,NH_3)等の例を挙げるまでもなく、様々な環境において問題が生じており、これら有害ガス成分の簡便効率的な除去・処理技術の開発が期待されている。そこで、本研究では、これらの社会的要望に答えるために、簡単な装置による他種類の有害ガス成分の画期的な除去方法であ"拡散スクラバー法"を基にして、室内(作業)環境を中心とした有害ガス成分の除去・処理装置の開発を検討した。
多孔質テフロン膜を長方形フレームの両面にマウントし、そのフレーム内に水を入れたユニットを数十枚スリット上に配列した有害ガス除去装置を製作した。汚染空気をユニットの隙間に流すと有害ガスは拡散し、多孔質テフロン膜を透過して除去液の水に吸収される。又、有害ガスを除去した水の処理方法としては、水に溶けてイオンとなったガス成分をイオン交換樹脂により吸着除去することで簡単に水を再生でき、有害ガス成分の除去液として用いる水は循環して長期間にわたり使用することが可能である。そして、本装置で除去された有害ガス成分は、最終的には既存のイオン交換樹脂の交換・再生により処理される。有害ガスを発生し、製作した有害ガス成分の除去・処理装置に導入する実験を通じて、多孔質テフロン膜をマウントした長方形フレームの形状・特性、通気流速と有害ガス成分の除去効率に関する基礎データを蓄積し、本除去・処理装置の最適除去条件の検討を行った。
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