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融体からの急冷シリコンの結晶欠陥

研究課題

研究課題/領域番号 10650015
研究種目

基盤研究(C)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 応用物性・結晶工学
研究機関大阪府立大学

研究代表者

大嶋 隆一郎  大阪府立大学, 先端科学研究所, 教授 (50029469)

研究分担者 堀 史説  大阪府立大学, 先端科学研究所, 助手 (20275291)
研究期間 (年度) 1998 – 2000
研究課題ステータス 完了 (2000年度)
配分額 *注記
3,500千円 (直接経費: 3,500千円)
2000年度: 300千円 (直接経費: 300千円)
1999年度: 1,000千円 (直接経費: 1,000千円)
1998年度: 2,200千円 (直接経費: 2,200千円)
キーワードシリコン / 結晶欠陥 / 急冷組織 / 高分解能電顕 / 微細双晶 / 原子空孔集合体 / 格子間原子集合体 / 積層欠陥 / 積層欠陥四面体 / 60°転位 / 高分解能観察 / 超高圧電子顕微鏡 / 固-液界面 / 格子欠陥 / 原子空孔 / 60度転位 / 転位ループ / 電子顕微鏡
研究概要

シリコンの高温における欠陥挙動を明らかにするために、二通りの方法で実験を行った。(1)赤外線加熱装置を組み込んだ急速加熱急冷装置を作製し、真空中で急速加熱融解後、急冷処理を施した試料について透過電顕法による観察、解析。(2)冷陰極電子銃を備えた電子顕微鏡内で超高温用試料ホルダーを用いた融解挙動の高分解能電顕観察及び、高温域における欠陥形成の直接観察と急冷組織観察。試料は不純物の影響を避けるため、主として含有酸素濃度の低いFZ-Siを用いたが、一般の半導体デバイス用CZ-Siについても観察を行った。結果は以下のようにまとめられる。急冷試料中には微細{111}双晶帯、extrinsic型{111}積層欠陥、積層欠陥四面体、60゜転位、格子間型転位ループ及び本性の未確認の多数の微小欠陥クラスターの形成が認められた。高分解能観察の結果では空孔の集合体の可能性を示唆する微小欠陥の存在も確認した。一方、融解のその場観察において、多くの固-液界面は{111}であり、温度変化に伴う固-液界面の前進-後退は1〜3原子層の高さを有する一対のステップの界面に沿う運動によってなされることを確認した。さらに固-液界面付近で複数の{111}面のせん断運動による{111}微細双晶の形成を初めて確認した。また中温域での電子線照射等において通常形成される{113}欠陥と同様の微小欠陥が融点近傍の固相中に形成されることを見いだした。この欠陥は格子間原子のクラスタリングによるものと考えられる。総合的に考察するとシリコンの高温域では固-液界面より格子間原子と原子空孔が形成され、さらに含有不純物も関係したそれらの離散集合過程によって複雑な欠陥形成が生ずると結論出来る。

報告書

(4件)
  • 2000 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 1999 実績報告書
  • 1998 実績報告書
  • 研究成果

    (19件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (19件)

  • [文献書誌] Ryuichiro Oshima: "Formation of Stacking Fault Tetrahedra in Silicon Rapidly Solidified from Melt"Japanese Journal Applied Physics. 37. L1430-L1432 (1998)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2000 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Ryuichiro Oshima: "In situ TEM observation of melting of silicon"Proc.3rd Symp.Atomic-scale Surface and Interface Dynamics (Fukuoka, March 2-3, 1999). 229-234 (1999)

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      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2000 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Hirosato Nishizawa: "Lattice defects in silicon rapidly solidified from the melt"Physica B. 273-4. 383-386 (1999)

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      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2000 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Ryuichiro Oshima: "Study on melting and rapidly solidified substructure of silicon by TEM"Proc.4th Symp.Atomic-scale Surface and Interface Dynamics (Tsukuba, March 2-3, 2000). 85-88 (2000)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2000 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Ryuichiro Oshima: "In-situ HRTEM study on atomic behavior of liquid-solid interface of silicon"Proc.3rd Int.Symp.on Adv.Sci.and Tech.Si Materials (Kona, Hawaii, Nov, 20-24, 2000). 549-554 (2000)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2000 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Ryuichiro Oshima: "Study on atom behavior of liquid-solid interface of silicon by HRTEM"Proc.5th Symp.Atomic-scale Surface and Interface Dynamics (Tokyo, March 1-2, 2001). 121-126 (2001)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(和文)」より
    • 関連する報告書
      2000 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] R.OSHIMA, F.HORI, M.KOMATSU AND H.MORI: "FORMATION OF STACKING FAULT TETRAHEDRA IN SILICON RAPIDLY SOLIDIFIED FROM MELT"JPN.J.APPL.PHYS.. VOL.37. L1430-L1432 (1998)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2000 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] R.OSHIMA, F.HORI, M.KOMATSU AND H.MORI: "IN SITU TEM OBSERVATION OF MELTING OF SILICON"PROC.3^<RD> SYMP.ATOMIC-SCALE SURFACE AND INTERFACE DYNAMICS. 229-234 (1999)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2000 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] H.NISHIZAWA, F.HORI AND R.OSHIMA: "LATTICE DEFECTS IN SILICON RAPIDLY SOLIDIFIED FROM THE MELT"PHYSICA B. VOL273-4. 383-386 (1999)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2000 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] R.OSHIMA, H.NISHIZAWA AND F.HORI: "STUDY ON MELTING AND RAPIDLY SOLIDIFIED SUBSIRUCTURE OF SILICON BY TEM"PROC.4^<TH> SYMP.ATOMIC-SCALE SURFACE AND INTERFACE DYNAMICS. 85-88 (2000)

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2000 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] R.OHIMA, H.NISHIZAWA AND F.HORI: "IN-SITU HRTEM STUDY ON ATOMIC BEHAVIOR OF LIQUID-SOLID INTERFACE OF SILICON"PROC.3^<RD> INT.SYMP.ADV.SCI.AND TECH.SILICON MATERIALS. 549-554 (2000)

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      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2000 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] R.OSHIMA, H.NISHIZAWA, F.HORI AND N.FUJITA: "STUDY ON ATOM BEHAVIOR OF LIQUID-SOLID INTERFACE OF SILICON BY HRTEM"PROC.5^<TH> SYMP.ATOMIC-SCALE SURFACE AND INTERFACE DYNAMICS. 121-126 (2001)

    • 説明
      「研究成果報告書概要(欧文)」より
    • 関連する報告書
      2000 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] Ryuichiro Oshima: "Study on melting and rapidly solidified substructure of silicon by TEM"Proc. 4th Symp. Atomic-scale Surface and Interface Dynamics (Tsukuba,March 2-3,2000). 85-88 (2000)

    • 関連する報告書
      2000 実績報告書
  • [文献書誌] Ryuichiro Oshima: "In-situ HRTEM study on atomic behavior of liquid-solid interface of silicon"Proc.3rd Int.Symp.on Adv.Sci.and Tech.Si Materials (Kona,Hawaii,Nov.20-24,2000). 549-554 (2000)

    • 関連する報告書
      2000 実績報告書
  • [文献書誌] Ryuichiro Oshima: "Study on atom behavior of liquid-solid interface of silicon by HRTEM"Proc.5th Symp.Atomic-scale Surface and Interface Dynamics (Tokyo,March 1-2,2001). (in press). (2001)

    • 関連する報告書
      2000 実績報告書
  • [文献書誌] H.Nishizawa,F.Hori and R.Oshima: "Lattice defects in silicon rapidly solidified from the melt"Physica B. 273-274. 383-386 (1999)

    • 関連する報告書
      1999 実績報告書
  • [文献書誌] R.Oshima,F.Hori et al.: "In situ TEM observation of melting of silicon"Proc. 3rd symp. Atomic-scale and Interface Dynamics. 229-234 (1999)

    • 関連する報告書
      1999 実績報告書
  • [文献書誌] 大嶋隆一郎、堀 史説、上野武夫、矢口紀恵: "シリコンの融解-擬固過程の電子顕微鏡その場観察" 日本結晶成長学会誌. 15・5. 201-206 (1998)

    • 関連する報告書
      1998 実績報告書
  • [文献書誌] R.Oshima,F.Hori,M.Komatsu and H.Mori: "Formation of Stacking Fault Tetrahedra in Silicon Rapidly Solidified from Melt" Japan.J.Appl.Phys.37・12A. L1430-L1432 (1998)

    • 関連する報告書
      1998 実績報告書

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公開日: 1998-04-01   更新日: 2016-04-21  

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