オゾンガスによるシリコンおよびシリコン基セラミックスの酸化機構解明

• 研究課題/領域番号: 10650701
• 研究種目: 基盤研究(C)
• 配分区分: 補助金
• 応募区分: 一般
• 研究分野: 材料加工・処理
• 研究機関: 東北大学
• 研究代表者: 成島 尚之 東北大, 工学(系)研究科, 助教授 (20198394)
• 研究期間 (年度): 1998
• 研究課題ステータス: 完了 (1998年度)
• 配分額: 3,100千円 (直接経費: 3,100千円); 1998年度: 3,100千円 (直接経費: 3,100千円)