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近年、NIEsでは従来の雁行形態的な技術発展パターンから公的研究期間、海外企業、大学、地場資本が共進化するパターンがハイテク分野でみられるようになってきた。技術発展が1企業レベルでの技術移転から先進国企業との戦略提携や公的研究期間との協同研究を通じて技術成果をスピンオフするパターンに移行しつつある。本研究では、特にNIEsの中でも台湾を中心に、その技術発展過程を考察した。結論は次のようである。後発途上国の技術発展において政府の役割は重要である。途上国企業の大多数は企業規模が小さく経営資源の蓄積の度合いも低い。そのような環境で多国籍企業と交渉し技術を獲得すること、大量の資本を要し不確実性の高いR&Dに多くの資金を投じるのは困難である。政府は公的研究機関を通じて外国人からの技術導入を容易にし、多国籍企業との戦略提携を行い、共同研究開発をつうじてその成果を地場産業に拡散することができる。台湾の半導体産業はまさにそのようなケースであった。ハイテクパークを中心に立地するハイテク企業は、クラスターの形成を通じて公的研究機関、地場企業、大学、超国家的な技術コミュニティが共進化するパターンへと移行している。これは従来の雁行形態パターンからの離脱である。
後発途上国は、政府の主導的な役割を通じて先進国にキャッチアップすることが可能である。ただし、これには一定の技術の受容能力が人的資源の育成を通じて蓄積されていることが必要となる。台湾についてはシリコンバレーから多くの帰国者がこれをカバーした。さらに、地場産業に対する政府のイノベーション政策もハイテク分野への直接介入から、人的資源の育成、ベンチャー企業のサポート、税制面の措置、インフラの整備等の重視へとシフトしていくことが求められる。
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