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ドナードープしたC希土構造酸化物中の格子間酸素による電荷補償機構の研究

研究課題

研究課題/領域番号 10750497
研究種目

奨励研究(A)

配分区分補助金
研究分野 無機材料・物性
研究機関大阪大学

研究代表者

小俣 孝久  大阪大学, 大学院・工学研究科, 助手 (80267640)

研究期間 (年度) 1998 – 1999
研究課題ステータス 完了 (1999年度)
配分額 *注記
2,100千円 (直接経費: 2,100千円)
1999年度: 500千円 (直接経費: 500千円)
1998年度: 1,600千円 (直接経費: 1,600千円)
キーワード透明伝導体 / ITO / C希土構造
研究概要

1.光吸収スペクトルの評価・解析
(1)昨年度Er^<3+>をドープしたIn_2O_3とITOの焼結体粉末で得られたせいかの理論的な裏づけを得るため、それらの薄膜に対する低温での光吸収スペクトルの測定を予定していた。しかしながら、Er^<3+>を薄膜中にドープすることが出来ず、これについては今のところの成功していない。
(2)希土類イオンの光による電子遷移の強度に関するJudd-Ofelt理論によると、^4I_<15/2>→^2H_<11/2>の遷移は、ゼロでないU^<(2)>行列要素がある。そのような遷移では、希土類イオンの配位環境に敏感なΩ_2パラメータによって強度が大きく変わる。Er^<3+>ドープしたITOとIn_2O_3の粉末の光吸収スペクトルで見られた差は、そられの間でのΩ_2パラメータの違いを反映したものと結論された。
2.研究総括
(1)大気中で作製されたITOの密度は、電子を2個トラップした格子間酸素の存在によって解釈できる。
(2)Er^<3+>イオンをプローブイオンとしてドープしたIn_2O_3、ITOの多結晶粉末の^4I_<15/2>→^2H_<11/2>のf-f電子遷移に帰属される光吸収(約522nm)は、In_2O_3とITOとで大きな差異があることを見出した。その起源は、Sn^<4+>ドープによってC希土構造中に過剰酸素が持ち込まれ、陽イオンの配位数が増加したことであると結論された。さらに、この光吸収スペクトルの強度変化は、Judd-Ofeltの理論によって解釈できた。
(3)格子間酸素による電荷の補償を考慮し、ITOのSn^<4+>のドーピングの機構を次の欠陥反応式で表せる。2SnO_2→2Sn_<In> +2(1-z)e'+zO_i"+ 3O^×_o+(1-z)/2O_2(gas)

報告書

(2件)
  • 1999 実績報告書
  • 1998 実績報告書
  • 研究成果

    (2件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (2件)

  • [文献書誌] T.Omata: "High efficiency-carrier-generation for the oxygen release reaction in iridium tin oxide"Jpn.J.Appl.Phys.Part2. 37(7B). L879-L881 (1998)

    • 関連する報告書
      1999 実績報告書
  • [文献書誌] T.Omata,SO.-Y.-Matsuo: "High efficienoy-carrier-generation for the oxygen release reaction in indium tin oride" Jpn.J.Appl.Phys.Part2. 37(7B). L879-L881 (1998)

    • 関連する報告書
      1998 実績報告書

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公開日: 1998-04-01   更新日: 2016-04-21  

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