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紫外半導体レーザーの為の高輝度紫外発光III族窒素化物量子ドットに関する研究

研究課題

研究課題/領域番号 10875016
研究種目

萌芽的研究

配分区分補助金
研究分野 応用光学・量子光工学
研究機関理化学研究所

研究代表者

平山 秀樹  理化学研究所, 半導体工学研究室, 研究員 (70270593)

研究分担者 田中 悟  北海道大学, 電子科学研究所, 助教授 (80281640)
研究期間 (年度) 1998 – 1999
研究課題ステータス 完了 (1999年度)
配分額 *注記
2,300千円 (直接経費: 2,300千円)
1999年度: 500千円 (直接経費: 500千円)
1998年度: 1,800千円 (直接経費: 1,800千円)
キーワードIII族窒化物半導体 / AlGaN / 量子ドット / 有機金属気相成長法 / 紫外レーザー / 量子ドットレーザー / アンチサーファクタント
研究概要

本研究の目的は、波長250〜300nm程度の紫外領域に於いて、高輝度発光半導体を研究開発し、紫外半導体レーザ実現の為の基礎的技術を開拓することである。本研究では、量子ドット構造を紫外発光半導体に導入し、ドットに閉じこめられた励起子の効果を用いて,半導体の光物性を根本から変化させることによって、高輝度紫外発光を得ることを目指している。
本年度は、はじめに、紫外の短波領域における高輝度発光材料の開発を目指し、高いアルミニウム組成の窒化アルミニウムガリウム(AlGaN)あるいは窒化アルミニウム(AlN)を用いた量子井戸構造の作製を行った。量子井戸構造の最適化を行うことにより最短波長(230nm帯)における低温高効率発光を実現した。AlGaN量子井戸の高効率発光は低温のみでしか得られないので、我々はさらに、室温高効率発光を実現するため、AlGaNへのインジウム(In)導入を行った。AlGaN中でのInの組成変調による量子ドット閉じ込め効果を利用し、高効率発光実現を試みた。Inを約5%程度含む、紫外発光4元混晶(InAlGaN)の結晶成膜条件をはじめて明らかにした。In導入によるAlGaN結晶品質の向上等の効果を明らかにし、高品質4元混晶作製に成功した。それを用いて量子井戸を作製することにより320nm帯の紫外高効率発光を室温に於いて実現した。

報告書

(2件)
  • 1999 実績報告書
  • 1998 実績報告書
  • 研究成果

    (6件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (6件)

  • [文献書誌] H.Hirayama: "Optical Properties of AlGaN Quantum Well Structures"Materials Reserch Society. (accepted). (2000)

    • 関連する報告書
      1999 実績報告書
  • [文献書誌] H.Hirayama: "230-250nm intense emission from AlN/AlGaN quantum well"Physica tatus solidi. (submitted). (2000)

    • 関連する報告書
      1999 実績報告書
  • [文献書誌] H.Hirayama: "230-250nm Photoluminescence from AlGaN QWs at 77k"Journal of Materials Research Society. (accepted). (2000)

    • 関連する報告書
      1999 実績報告書
  • [文献書誌] H.Hirayama: "Fabrication of Self-assembling AlGaN Quantum Dots on AlGaN Surfaces Using Anti-surfactant" Materials Research Society. 537(accepted). (1999)

    • 関連する報告書
      1998 実績報告書
  • [文献書誌] H.Hirayama: "Optical Properties of Si-doped Al_xGa_<1-x>N/AlyGa_<1-y>N(x=0.24-0.53, y=0.11) Multi-Quantum-well Structurs" Materials Research Society. 537(accepted). (1999)

    • 関連する報告書
      1998 実績報告書
  • [文献書誌] H.Hirayama: "Fabrication of self-assembling InGaN and AlGaN Quantum-Dots on AlGaN Surfaces Using Anti-surfactant" Microelectronic Engineering(ELSEVIER). (accepted). (1999)

    • 関連する報告書
      1998 実績報告書

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公開日: 1998-04-01   更新日: 2016-04-21  

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