| 研究課題/領域番号 |
10875183
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| 研究種目 |
萌芽的研究
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 研究分野 |
合成化学
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| 研究機関 | 東京工業大学 |
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研究代表者 |
上野 昭彦 東京工業大学, 生命理工学部, 教授 (50091658)
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| 研究分担者 |
池田 博 東京工業大学, 生命理工学部, 助手 (70201910)
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| 研究期間 (年度) |
1998 – 1999
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| 研究課題ステータス |
完了 (1999年度)
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| 配分額 *注記 |
2,000千円 (直接経費: 2,000千円)
1999年度: 1,000千円 (直接経費: 1,000千円)
1998年度: 1,000千円 (直接経費: 1,000千円)
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| キーワード | モレキュラーインプリント / βーシクロデキストリン / 分子内架橋 / ホスト・ゲスト / 包接錯体 / モレキュラーインプリント法 / シクロゲキストリン / 分子認識 / 鋳型分子 |
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| 研究概要 |
分子内架橋反応を用いる新しいモレキュラーインプリント法を目指して、まず、6位が全部アミノ化されているβーシクロデキストリン51.7mgをγーチオブチロラクトン(0.5ml/DMF2ml)と反応させた。反応は窒素置換条件下90℃で100時間行なった。この反応終了後、精製は1-ブタノールを用いる再沈で行なった。そして、すべてのアミノ基が末端にSH基を有する生成物に変換した。収率は67%であった。これを用い、ゲスト存在下、包接ゲストの形状を記憶するようにS-S架橋を行なった。しかし、S-S形成は分子内だけでなく、分子間でも顕著に起こり、別のアプローチを必要とすることが判明した。そこで、基盤にシクロデキストリン単位をさせて、シクロデキストリンの積層のしかたがゲスト分子に特異的であるような系の作製を試みた。まず、ガラス表面に金を薄くコートさせ、S-S架橋しているシクロデキストリンダイマーを金表面に並べる試みを行なった。まず、ガラス表面に金の薄膜を形成するため、スパッタリング操作を時間を変えて行なった。スパッタリング時間を30、60、180、600秒と変えたところ、30および60秒の時間で得られたサンプルがかなりな光の透過率を示すが、長時間のものは透過率を下げることが判明した。S-S架橋しているシクロデキストリンダイマーを第一層にし、第二層以降はアミノ化シクロデキストリンとの銅イオンを用いる配位結合を利用する方針のもとに、まず、アミノ化シクロデキストリンの銅イオンによる配位を試みたところ、一週間たつと固体が生成してきた。現在、この固体について検討中である。
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