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純スピン流制御型spin-MOSFETの創製

研究課題

研究課題/領域番号 10J02787
研究種目

特別研究員奨励費

配分区分補助金
応募区分国内
研究分野 電子デバイス・電子機器
研究機関九州大学

研究代表者

安藤 裕一郎  九州大学, 稲森フロンティア研究センター, 特別研究員(PD)

研究期間 (年度) 2010 – 2012
研究課題ステータス 完了 (2011年度)
配分額 *注記
1,900千円 (直接経費: 1,900千円)
2011年度: 900千円 (直接経費: 900千円)
2010年度: 1,000千円 (直接経費: 1,000千円)
キーワードスピントロニクス / スピンMOSFET / シリコン / スピン注入 / ハンル効果 / Siベーススピントロニクス / Spin MOSFET / Fe_3Si / Co_2FeSi / SOI / サブミクロン加工
研究概要

高品質CoFe/Si構造を用いて半導体中に蓄積したスピンを電気的に検出する3端子ハンル効果測定を行ったところ,スピン蓄積に起因する明瞭なハンル信号を得ることに成功した.また,ハンル信号の絶対値は印加電流の極性に強く依存していることが判明した.これは注入される電流のスピン偏極率が極性依存性を有しているのではなく,Si中の蓄積スピンを検出する為の電気的検出感度に極性依存性があることに起因していることが明らかとなった.また,この検出感度は印加電流の極性依存性以外にも温度依存性をも有していることが判明した.このことはスピン信号の高温検出の実現には,印加電流のスピン偏極率以外に検出感度も考慮する必要があることを示唆している.これらを包括的に検討した結果,室温でのスピン信号の検出に成功した.
スピンデバイスにゲート機能を付加するためにSOI (Silicon on Insulator)基板上にCoFeを単結晶成長した構造を用いバックゲート型のspin-MOSFET素子を作製した.この素子を用い,室温において,3端子ハンル効果測定を行ったところ,明瞭なハンル信号を得ることに成功した.一定電流の条件下でハンル信号の絶対値とゲート電圧の関係を調査したところ,ゲート電圧の増加に伴い,信号の絶対値は単調減少していることが判明した.これはゲート電圧の増加に伴い,Si中にキャリアとして存在する電子の量が増大した結果,一定のスピン蓄積電圧を誘起するのに必要なスピンの量が増大し,スピン信号が減少したものと考えられる.このようなゲート電圧によるスピン信号の変調原理は世界でも初めての報告である.

報告書

(2件)
  • 2011 実績報告書
  • 2010 実績報告書
  • 研究成果

    (38件)

すべて 2012 2011 2010

すべて 雑誌論文 (13件) (うち査読あり 13件) 学会発表 (24件) 図書 (1件)

  • [雑誌論文] Temperature evolution of spin accumulation detected electrically in a nondegenerated silicon channel2012

    • 著者名/発表者名
      Y.Ando, et.al.
    • 雑誌名

      Physical Review B

      巻: (In press)

    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Electrical manipulation of spin polarization and generation of giant spin current using multi terminal spin injectors2012

    • 著者名/発表者名
      S.Nonoguchi, Y.Ando, et.al.
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics

      巻: (In press)

    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Spin accumulation created electrically in an n-type germanium channel using Schottky tunnel contacts2012

    • 著者名/発表者名
      K.Kasahara, Y.Ando, et.al.
    • 雑誌名

      Journal of Applied Physics

      巻: (In press)

    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Electric-field control of spin accumulation signals in silicon at room temperature2011

    • 著者名/発表者名
      Y.Ando, et.al.
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters

      巻: 99 号: 13 ページ: 132511-132511

    • DOI

      10.1063/1.3643141

    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Transport properties of pure spin currents in a polycrystalline Gd wire2011

    • 著者名/発表者名
      S.Nonoguchi, Y.Ando, et.al.
    • 雑誌名

      IEEE TRANSACTIONS on magnetics

      巻: 47 号: 10 ページ: 2750-2752

    • DOI

      10.1109/tmag.2011.2158407

    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Bias current dependence of spin accumulation signals in a silicon channel detected by a Schottky tunnel contact2011

    • 著者名/発表者名
      Y.Ando, et.al.
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters

      巻: 99 号: 1

    • DOI

      10.1063/1.3607480

    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Source-Drain Engineering using Atomically Controlled Heterojunctions for Next-Generation SiGe Transistor Applications2011

    • 著者名/発表者名
      K.Hamaya, Y.Ando, et al.
    • 雑誌名

      Japanease Journal of Applied Physics

      巻: 50 ページ: 10101-10101

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Electrical detection of spin transport in Si using high-quality Fe3Si/Si Schottky tunnel contacts2010

    • 著者名/発表者名
      Y.Ando, et al.
    • 雑誌名

      Journal of Magnetic Society Japan

      巻: 34 ページ: 316-321

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Effect of atomically controlled interfaces on Fermi-level pinning at metal/Ge interfaces2010

    • 著者名/発表者名
      K.Yamane, Y Ando, et al.
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters

      巻: 96 ページ: 162104-162104

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Comparison of nonlocal and local magnetoresistance signals in laterally fabricated Fe3Si/Si spin-valve devices2010

    • 著者名/発表者名
      Y.Ando, et al.
    • 雑誌名

      APPLIED PHYSICS EXPRESS

      巻: 3 ページ: 93001-93001

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] High-quality epitaxial CoFe/Si(111) heterojunctions fabricated by low-temperature molecular beam epitaxy2010

    • 著者名/発表者名
      Y.Maeda, Y.Ando, et al.
    • 雑誌名

      Applied Physics Letters

      巻: 97 ページ: 192501-192501

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Optimization of cleaning condition of Permalloy/Cu interface for efficient spin injection2010

    • 著者名/発表者名
      S.Yakata, Y.Ando, et al.
    • 雑誌名

      TENCON IEEE Region 10 Conference Proceedings

      ページ: 126-128

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [雑誌論文] Spin transport properties in polycrystalline Gd film and strip2010

    • 著者名/発表者名
      S.Nonoguchi, Y.Ando, et al
    • 雑誌名

      TENCON IEEE Region 10 Conference Proceedings

      ページ: 1881-1884

    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
    • 査読あり
  • [学会発表] CoFe/Si界面の局在準位におけるスピン蓄積信号の検出2012

    • 著者名/発表者名
      安藤, 他
    • 学会等名
      2012年春季第59回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東京(予定)
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] Si-MOSFET構造におけるスピン蓄積の検出2012

    • 著者名/発表者名
      真崎, 安藤, 他
    • 学会等名
      2012年春季第59回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      東京(予定)
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] Si上における強磁性シリサイドFe_3Siの高品質形成とSiへのスピン注入2011

    • 著者名/発表者名
      安藤, 他
    • 学会等名
      第17回シリサイド系半導体研究会
    • 発表場所
      東京
    • 年月日
      2011-03-28
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] 三端子Hanle効果測定法を用いたSi中のスピン蓄積の検出2011

    • 著者名/発表者名
      真崎, 安藤, 他
    • 学会等名
      第35回日本磁気学会学術講演会
    • 発表場所
      新潟
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] n-Ge中に生成されたスピン蓄積の検出2011

    • 著者名/発表者名
      馬場, 安藤, 他
    • 学会等名
      第35回日本磁気学会学術講演会
    • 発表場所
      新潟
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] Si上における強磁性シリサイドFe_3Siの高品質形成とSiへのスピン注入2011

    • 著者名/発表者名
      安藤, 他
    • 学会等名
      2011年度応用物理学会シリサイド系半導体・夏の学校
    • 発表場所
      京都(招待講演)
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] Electrical creation of spin accumulation in a Si channel using a Schottky tunnel contact2011

    • 著者名/発表者名
      Y.Ando, et.al.
    • 学会等名
      56th Annual Conference on Magnetism and Magnetic Materials
    • 発表場所
      Arizona, USA
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] Spin accumulation created electrically in an n-Ge channel using Schottky tunnel contacts2011

    • 著者名/発表者名
      Y.Baba, Y.Ando, et.al.
    • 学会等名
      56th Annual Conference on Magnetism and Magnetic Materials
    • 発表場所
      Arizona, USA
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] Detection of a loop current created by a pure spin current2011

    • 著者名/発表者名
      T.Nomura, Y.Ando, et.al.
    • 学会等名
      56th Annual Conference on Magnetism and Magnetic Materials
    • 発表場所
      Arizona, USA
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] Generation of giant spin current using multi-terminal nonlocal spin injections2011

    • 著者名/発表者名
      S.Nonoguchi, Y.Ando, et.al.
    • 学会等名
      56th Annual Conference on Magnetism and Magnetic Materials
    • 発表場所
      Arizona, USA
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] Electrical detection of spin accumulation in silicon through a Schottky tunnel barrier2011

    • 著者名/発表者名
      Y.Ando, et.al.
    • 学会等名
      SPINTECH-6
    • 発表場所
      Shimane
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] Electrical detection of spin accumulation in Ge through a Schottky tunnel barrier2011

    • 著者名/発表者名
      K.Kasahara, Y.Ando, et.al.
    • 学会等名
      SPINTECH-6
    • 発表場所
      Shimane
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] Efficient manipulations of pure spin currents using V-shape ferromagnetic wires2011

    • 著者名/発表者名
      S.Nonoguchi, Y.Ando, et.al.
    • 学会等名
      SPINTECH-6
    • 発表場所
      Shimane
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] Pure spin current injection into polycrystalline Gd2011

    • 著者名/発表者名
      S.Nonoguchi, Y.Ando, et.al.
    • 学会等名
      SPINTECH-6
    • 発表場所
      Shimane
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] Hanle measurements for accumulated spins in a silicon channel using a Schottky tunnel contact2011

    • 著者名/発表者名
      Y.Ando, et.al.
    • 学会等名
      5th International Workshop on Spin Currents
    • 発表場所
      Miyagi
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] Three-terminal spin detection in Ge through a Schottky tunnel barrier2011

    • 著者名/発表者名
      Y.Baba, Y.Ando, et.al.
    • 学会等名
      5th International Workshop on Spin Currents
    • 発表場所
      Miyagi
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] Electrical detection of spin accumulation in Si with a high-quality CoFe/Si Schottky tunnel contact2011

    • 著者名/発表者名
      Y.Maeda, Y.Ando, et.al.
    • 学会等名
      2011 International Workshop on Advanced Electrical Engineering and Related Topics
    • 発表場所
      Germany
    • 関連する報告書
      2011 実績報告書
  • [学会発表] ハンル効果測定を用いた強磁性合金/シリコン界面近傍におけるスピン蓄積の電気的検出2011

    • 著者名/発表者名
      安藤, 他
    • 学会等名
      第58回応用物理学関係連合講演会
    • 発表場所
      神奈川
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] Electrical detection of spin transport in Si using high-quality Schottky contacts2010

    • 著者名/発表者名
      K.Hamaya, Y.Ando, M.Miyao
    • 学会等名
      The 2010 International Conference on Solid State Devices and Materials
    • 発表場所
      Tokyo, Japan
    • 年月日
      2010-09-24
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] スピンMOSFET用Fe_3Si/SOI(111)高品質接合の作製2010

    • 著者名/発表者名
      馬場, 安藤, 他
    • 学会等名
      第71回応用物理学会学術講演会
    • 発表場所
      長崎
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] Spin Injection into Si across an Fe_3Si/Si Schottky-Tunnel Barrier2010

    • 著者名/発表者名
      K.Hamaaya, Y.Ando, et al.
    • 学会等名
      ISTESNE 2010
    • 発表場所
      Tokyo, Japan
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] Nonlocal detection of spin transport in silicon using a Co/Fe_3Si injector and an Fe_3Si detector2010

    • 著者名/発表者名
      Y.Ando, et al.
    • 学会等名
      PASPS-VI
    • 発表場所
      Tokyo, Japan
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] High-quality epitaxial growth of Co70Fe30 alloys on silicon2010

    • 著者名/発表者名
      Y.Maeda, Y.Ando, et al.
    • 学会等名
      PASPS-VI
    • 発表場所
      Tokyo, Japan
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [学会発表] Nonlocal voltage measurements of spin transport in silicon using high-quality Fe3Si/Si Schottky tunnel contacts2010

    • 著者名/発表者名
      K.Hamaya, Y.Ando, M.Miyao
    • 学会等名
      SPIE 2010
    • 発表場所
      San Diego, U.S.A.
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書
  • [図書] ナノシリコンの最新技術と応用展開2010

    • 著者名/発表者名
      越田, 安藤, 他
    • 総ページ数
      245
    • 出版者
      CMC出版
    • 関連する報告書
      2010 実績報告書

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公開日: 2010-12-03   更新日: 2024-03-26  

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