| 研究課題/領域番号 |
11450048
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
機械材料・材料力学
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| 研究機関 | 工学院大学 |
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研究代表者 |
木村 雄二 工学院大学, 工学部, 教授 (90107160)
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| 研究分担者 |
藤原 幸男 工学院大学, 工学部, 助教授 (80100361)
鷹野 一朗 工学院大学, 工学部, 助教授 (70226801)
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| 研究期間 (年度) |
1999 – 2000
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| 研究課題ステータス |
完了 (2000年度)
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| 配分額 *注記 |
10,700千円 (直接経費: 10,700千円)
2000年度: 3,200千円 (直接経費: 3,200千円)
1999年度: 7,500千円 (直接経費: 7,500千円)
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| キーワード | CVD,IMコーティング / 耐食性 / 電気化学AFMその場観察 / 腐食挙動 / 電気化学測定 / CPCD法 / 欠陥存在率 / 密着性 |
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| 研究概要 |
現代社会を支える機械・電子部品の軽量化・マイクロ化は、各種の成膜技術により実現されており、また、今後種々の産業分野における材料技術のさらなる高度化を実現するためには、高機能性・多機能性を付与するミクロからナノベルでの薄膜構造制御手法の確立の必要性が叫ばれている。
基材表面に種々の機能性を付与するセラミックコーティングは、本来膜自身は、耐食性、耐摩耗性などに優れているはずであるにもかかわらず、皮膜形成過程で不可避的に膜中に導入されるピンホール、ダスト、ヒロックなどの欠陥ならびに基材との界面の密着性の不十分さなどに起因して成膜された部材の優れた機能特性が必要とされる期間必ずしも維持されないなど、数多くの問題が解決されないままに残されている状況にある。
したがって、セラミックコーティング自身が本来有している優れた耐環境機能性を十分に発現させるためにも、これらの改善に向けたセラミックコーティング・システムの最適化の検討を行うことが必要不可欠となっている.
そこで、本研究では主として、薄膜材料を真空チャンバー内で蒸着するのと同時に加速さわたN^+、Ar^+などのイオンを打込み界面部分にミキシング層を形成することにより基材との密着性の改善を可能にするイオンミキシング(IM)手法を用いて、TiNならびにTiO_2などの環境機能性を付与する薄膜を作製するに際しての、最適なイオン打ち込みエネルギーなどの下地処理条件ならびに薄膜作製の最適条件を模索し、耐環境性機能の改善に向けたセラミックコーティング・システムを構築することを意図したものである。
そこで、本研究では、セラミックコーティングの薄膜構造制御手法の確立の必要性から、N^+イオンの打ち込みによる基材表面の改質、薄膜作製の最適条件の模索を通じた密着性の改善を含む欠陥の制御、ならびTiO_2の光触媒機能に基づくカソード防食による欠陥部における腐食抑制の可能性の検討、の3つの視点から、皮膜/基材の界面構造の最適化をはかることを通じて、耐環境機能性の改善に向けたセラミックコーティング・システムの構築を目指し種々の基本的な検討を行い多くの成果を挙げた。
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