| 研究課題/領域番号 |
11450271
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| 研究種目 |
基盤研究(B)
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| 配分区分 | 補助金 |
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| 応募区分 | 一般 |
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| 研究分野 |
材料加工・処理
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| 研究機関 | 名古屋大学 |
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研究代表者 |
杉村 博之 名古屋大学, 工学研究科, 助教授 (10293656)
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| 研究分担者 |
井上 泰志 名古屋大学, 環境量子リサイクル研究センター, 助教授 (10252264)
高井 治 名古屋大学, 工学研究科, 教授 (40110712)
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| 研究期間 (年度) |
1999 – 2001
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| 研究課題ステータス |
完了 (2001年度)
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| 配分額 *注記 |
12,700千円 (直接経費: 12,700千円)
2001年度: 1,700千円 (直接経費: 1,700千円)
2000年度: 4,900千円 (直接経費: 4,900千円)
1999年度: 6,100千円 (直接経費: 6,100千円)
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| キーワード | ダイヤモンド / 窒化炭素 / ダイヤモンド状炭素 / 電界放射 / 窒素炭素 / 窒化欄素 / 微細加工 / プラズマ合成 / 電流計測 / 走査型プローブ顕微鏡 |
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| 研究概要 |
ダイヤモンドやカーボンナノチューブのようなプラズマプロセスによって合成される炭素系材料は、その電子親和性の高さから、低スレシホールド電圧・高電流効率の電界電子放射材料としての実用化が期待されている。これまでに、われわれの研究グルーブでは、窒化炭素、金属添加非晶質炭素、ダイヤモンド薄膜等の炭素系材料のプラズマ合成を行い、その電気・電子的性質を評価してきた。本研究では、これらの炭素系薄膜材料の電界放射特性を評価し、ディスプレイデバイス材料へと応用するための基礎的知見を得ることを目的とする。マクロなレベルから、デバイス化を念頭に置いたμm〜nmスケールでの測定を含めて評価を行い、高効率・低電圧動作・長寿命の電界放射材料の開発を目指した。
本研究では、亀界放射電流測定システムを試作し、炭素系薄膜材料の電界電子放出特性を評価した。得られた情報を炭素系薄膜プロセスへとフィードバックし、高効率・低電圧動作・長寿命の薄膜を得るための最適プロセス条件を探索した。また、AFMベースの微小領域電気特性計測システムを用いて、炭素系薄膜の導電性分布特性をミクロなスケールで評価した。
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