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多機能光触媒スパッタ薄膜の形成と環境材料への応用

研究課題

研究課題/領域番号 11480147
研究種目

基盤研究(B)

配分区分補助金
応募区分一般
研究分野 環境保全
研究機関富山大学

研究代表者

高橋 隆一  富山大学, 工学部, 助教授 (80019223)

研究分担者 升方 勝己  富山大学, 工学部, 教授 (80157198)
研究期間 (年度) 1999 – 2000
研究課題ステータス 完了 (2000年度)
配分額 *注記
6,500千円 (直接経費: 6,500千円)
2000年度: 2,200千円 (直接経費: 2,200千円)
1999年度: 4,300千円 (直接経費: 4,300千円)
キーワードスパッタ / 光触媒 / 薄膜 / 環境材料 / プラズマ / 酸化チタン / イオンビーム / 光半導体 / 電気化学 / 殺菌作用
研究概要

対向ターゲット式スパッタ装置により多機能光触媒TiO_2スパッタ薄膜を形成し、その構造・特性を調べた。予備実験としてTiターゲットとAr+N_2ガスを用いてTiN薄膜を形成し、装置の直流放電・スパッタ特性並びに膜の微細構造、電気的特性について調べた。
この結果を基にN_2をO_2に変えて装置の直流放電・スパッタ特性を測定し、TiO_2膜を形成した。膜厚0.5μm程度でSEM、AFM写真の結果から、表面は極めて平滑であるが、膜の色調・形態がArとO_2の流量比に依存した。最適条件でのTiO_2形成膜はほぼ無色透明であり、X線回折、ラマン分光分析の測定結果から、アナターゼの結晶構造を示した。基板位置がプラズマに近づくにつれ、膜表面は少し白濁するが、TiO_2結晶子の粒径は増大し、結晶のc軸が基板面に水平に配向することが分かった。膜組成比は定性分析の結果、すべての膜でO_2が化学量論比よりも少なくなっていた。
可視・紫外分光光度計を用いて透過、反射スペクトルを測定し、形成膜の光学的特性を調べた。プラズマの影響が少ない位置での形成膜では、透過率の波長依存性は大きく変化しないが、透過率は波長350nm付近で急激に減少し、350nm以下で透過率は0となっている。これから、形成膜の光学的バンドギャップEgは3.2eVとなりアナターゼ構造TiO_2薄膜の特性を示している。一方、プラズマの影響を受ける位置での場合は、薄膜の波長に対する光透過率がなだらかに変化する結果となり、光吸収端が長波長側へシフトしていることが分かった。
太陽エネルギーを有効に利用するには、TiO_2薄膜の光吸収端波長を350nmよりも長波長側へシフトすること、薄膜の微細構造をポーラスな形態にすること、などが必要であり、形成膜の光吸収の波長依存性をプラズマ中の荷電粒子による基板衝撃作用により改善でき、有効な薄膜形成法であることが示された。

報告書

(3件)
  • 2000 実績報告書   研究成果報告書概要
  • 1999 実績報告書
  • 研究成果

    (22件)

すべて その他

すべて 文献書誌 (22件)

  • [文献書誌] S.Iwatsubo,T.Takahashi,M.Naoe: "Angular Dependence of Magnetism of FeFilms Sputtered with Ion Beam Perpendicular to Target"Journal of Applied Physics. Vol.85,No.8. 5995-5997 (1999)

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  • [文献書誌] S.Iwatsubo,T.Takahashi,M.Naoe: "Effect of Surface Roughness on Magnetic Properties of Fe Films Deposited by Dual Ion Beam Sputtering"Thin Solid Films. Vol.343-344. 67-70 (1999)

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  • [文献書誌] S.Iwatsubo,T.Takahashi,M.Naoe: "An Estimation of Optimum Ar Ion Bombardment Energy for Depositing Good Fe Films Applying Thermal Spike Effect"Thin Solid Films. Vol.343-344. 71-74 (1999)

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  • [文献書誌] S.Iwatsubo,T.Takahashi,M.Naoe: "Adhesive Characteristics of Fe Films Deposited by Ion Beam Sputtering with Bombardment of Ar Ion"Thin Solid Films. Vol.343-344. 261-264 (1999)

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  • [文献書誌] T.Takahashi,K.Masugata,S.Iwatsubo,M.Asada: "Structure and Adhesive Properties of TiN Films Reactively Deposited by Plasma-Free Sputtering"Thin Solid Films. Vol.343-344. 273-276 (1999)

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  • [文献書誌] T.Takahashi,K.Masugata,H.Kawai,S.Kontani,J.Yamamoto: "Surface Morphology of TiN Films Reactively Deposited by Bias Sputtering"Vacuum. Vol.59,No.2-3. 777-784 (2000)

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      2000 研究成果報告書概要
  • [文献書誌] S.Iwatsubo, T.Takahashi and M.Naoe: "Angular Dependence of Magnetism of Fe Films Sputtered with Ion Beam Perpendicular to Target"Journal of Applied Physics. Vol.85, No.8. 5995-5997 (1999)

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  • [文献書誌] S.Iwatsubo, T.Takahashi and M.Naoe: "Effect of Surface Roughness on Magnetic Properties of Fe Films Deposited by Dual Ion Beam Sputtering"Thin Solid Films. Vol.343-344. 67-70 (1999)

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  • [文献書誌] S.Iwatsubo, T.Takahashi and M.Naoe: "An Estimation of Optimum Ar Ion Bombardment Energy for Depositing Good Fe Films Applying Thermal Spike Effect"Thin Solid Films. Vol.343-344. 71-74 (1999)

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  • [文献書誌] S.Iwatsubo, T.Takahashi and M.Naoe: "Adhesive Characteristics of Fe Films Deposited by Ion Beam Sputtering with Bombardment of Ar Ion"Thin Solid Films. Vol.343-344. 261-264 (1999)

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  • [文献書誌] T.Takahashi, K.Masugata, S.Iwatsubo and M.Asada: "Structure and Adhesive Properties of TiN Films Reactively Deposited by Plasma-Free Sputtering"Thin Solid Films. Vol.343-344. 273-276 (1999)

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  • [文献書誌] T.Takahashi, K.Masugata, H.Kawai, S.Kontani and J.Yamamoto: "Surface Morphology of TiN Films Reactively Deposited by Bias Sputtering"Vaccum. Vol.59, No.2-3. 777-784 (2000)

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  • [文献書誌] S.Iwatsubo,T.Takahashi,M.Naoe: "Angular Dependence of Magnetism of FeFilms Sputtered with Ion Beam Perpendicular to Target"Journal of Applied Physics. Vol.85,No.8. 5995-5997 (1999)

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      2000 実績報告書
  • [文献書誌] S.Iwatsubo,T.Takahashi,M.Naoe: "Effect of Surface Roughness on Magnetic Properties of Fe Films Deposited by Dual Ion Beam Sputtering"Thin Solid Films. Vol.343-344. 67-70 (1999)

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      2000 実績報告書
  • [文献書誌] S.Iwatsubo,T.Takahashi,M.Naoe: "An Estimation of Optimum Ar Ion Bombardment Energy for Depositing Good Fe Films Applying Thermal Spike Effect"Thin Solid Films. Vol.343-344. 71-74 (1999)

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      2000 実績報告書
  • [文献書誌] S.Iwatsubo,T.Takahashi,M.Naoe: "Adhesive Characteristics of Fe Films Deposited by Ion Beam Sputtering with Bombardment of Ar Ion"Thin Solid Films. Vol.343-344. 261-264 (1999)

    • 関連する報告書
      2000 実績報告書
  • [文献書誌] T.Takahashi,K.Masugata,S.Iwatsubo,M.Asada: "Structure and Adhesive Properties of TiN Films Reactively Deposited by Plasma-Free Sputtering"Thin Solid Films. Vol.343-344. 273-276 (1999)

    • 関連する報告書
      2000 実績報告書
  • [文献書誌] T.Takahashi,K.Masugata,H.Kawai,S.Kontani,J.Yamamoto: "Surface Morphology of TiN Films Reactively Deposited by Bias Sputtering"Vacuum. Vol.59,No.2-3. 777-784 (2000)

    • 関連する報告書
      2000 実績報告書
  • [文献書誌] Takakazu Takahashi: "Structure and Adhesive Properties of TiN Films Reactively Deposited by Plasma-Free Sputtering"Thin Solid Films. 343-344. 273-276 (1999)

    • 関連する報告書
      1999 実績報告書
  • [文献書誌] Takakazu Takahashi: "Surface morphology of TiN films reactively deposited by bias sputtering"Proceedings of the 5th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes. 219-220 (1999)

    • 関連する報告書
      1999 実績報告書
  • [文献書誌] Takakazu Takahashi: "Dependence of substrate tamperature on crystallographic characteristics of sputtered TiN films on steel substrates"Proceedings of the 5th International Symposium on Sputtering and Plasma Processes. 221-222 (1999)

    • 関連する報告書
      1999 実績報告書
  • [文献書誌] Takakazu Takahashi: "Surface morphology of TiN films reactively deposited by sputtering"Vacuum. (掲載予定). (2000)

    • 関連する報告書
      1999 実績報告書

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公開日: 1999-04-01   更新日: 2016-04-21  

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